[實用新型]帶晶片平穩(wěn)運動的三工位轉(zhuǎn)盤無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920043794.4 | 申請日: | 2009-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN201394541Y | 公開(公告)日: | 2010-02-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫振華 | 申請(專利權(quán))人: | 南京新聯(lián)電訊儀器有限公司 |
| 主分類號: | B07C5/00 | 分類號: | B07C5/00 |
| 代理公司: | 南京君陶專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 沈根水 |
| 地址: | 210042江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 晶片 平穩(wěn) 運動 三工位 轉(zhuǎn)盤 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及的是帶晶片平穩(wěn)運動的三工位轉(zhuǎn)盤,屬于晶片自動分選設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
在晶體行業(yè)中,晶片自動分選機是晶體濾波器、諧振器等產(chǎn)品的前道工序,白片生產(chǎn)品質(zhì)保證的關(guān)鍵分選設(shè)備。晶片分選機由調(diào)頻、調(diào)幅的振動(盤形送料),振動平臺(氣動送料,做直線運動)由去除碎片、重片結(jié)構(gòu),放入5-16個工位轉(zhuǎn)盤中,5-16個工位轉(zhuǎn)盤在工作時,在完成三步周期工作中,每一步轉(zhuǎn)動角度是由72度加72度,這樣晶片的運動距離變長,易產(chǎn)生靜電,造成精度難以提高;加工難度大,對機械加工工人要求高;加工材料不經(jīng)濟;精度難以保證,達(dá)不到設(shè)計要求。由于轉(zhuǎn)盤帶晶片運動時不能有間隙,不然的話就會產(chǎn)生飛片,碎片造成計數(shù)不準(zhǔn)與測量不準(zhǔn)以及晶片棱角劃傷固定盤,產(chǎn)品損傷。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型提出了一種帶晶片平穩(wěn)運動的三工位轉(zhuǎn)盤,旨在克服現(xiàn)有5-16個工位轉(zhuǎn)盤所存在的上述缺陷:有效提高精度,簡化加工難度,降低加工材料成本。
本實用新型的技術(shù)解決方案:其結(jié)構(gòu)是在三工位轉(zhuǎn)盤上開三個孔,即測量工位A孔、落料工位B孔、放片工位C孔,每孔直徑1.5-6mm,孔間相隔120度,三工位轉(zhuǎn)盤表面的平行度0.005mm。
本實用新型的優(yōu)點:提高了晶片平衡運動,保證晶片無破損,快速準(zhǔn)確無跑片。精度高;加工簡單;加工材料經(jīng)濟,降低了機械運動的摩擦負(fù)荷;減少運動距離,縮短了晶片運動距離,不易產(chǎn)生靜電。
附圖說明
附圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
附圖2是現(xiàn)有技術(shù)五工位結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中的A孔是測量工位、B孔是落料工位、C孔是放片工位
具體實施方式
對照附圖1,其結(jié)構(gòu)是在三工位轉(zhuǎn)盤上開三個孔,即A孔、B孔、C孔,每孔直徑1.5-6mm,孔間相隔120度,三工位轉(zhuǎn)盤表面的平行度0.005mm。所述的A孔是測量工位、B孔是落料工位、C孔是放片工位。
工作時,將放片工位C孔旋轉(zhuǎn)120°至測量工位A孔,進(jìn)行測量,測量后再旋轉(zhuǎn)120°至落料工位B孔,進(jìn)行落料,完成一個周期,待下一個周期,重復(fù)上述過程,周而復(fù)至。
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