[實用新型]膜式框架制氧裝置無效
| 申請號： | 200920034167.4 | 申請日： | 2009-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN201445900U | 公開（公告）日： | 2010-05-05 |
| 發明（設計）人： | 魏昕;王振勛;田雙鋒 | 申請（專利權）人： | 西安氧源電子有限公司 |
| 主分類號： | B01D53/22 | 分類號： | B01D53/22;C01B13/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 710065 陜西省西安市*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 框架 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.膜式框架制氧裝置，其特征在于，包括一框架(1)，框架(1)上有兩個出氣孔(2)，框架(1)的內壁上設置有絲網(3)，框架(1)的兩側粘接有高分子膜(4)。
2.根據權利要求1所述的膜式框架制氧裝置，其特征在于，所述的框架(1)內壁厚度為2.5-3.5mm。
3.根據權利要求1所述的膜式框架制氧裝置，其特征在于，所述的兩個出氣孔(2)位于同一個方向。
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