[實(shí)用新型]一種全反射光學(xué)系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200920031724.7
• 申請(qǐng)日: 2009-01-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201331617Y
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-10-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馬小龍;楊建峰;阮萍;李福;李婷;薛彬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所
• 主分類號(hào): G02B17/06
• 分類號(hào): G02B17/06;G02B23/00
• 代理公司: 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 康 凱

1.一種全反射光學(xué)系統(tǒng)，包括光軸OO′、對(duì)稱位于光軸OO′上下兩側(cè)的主鏡(1)和位于主鏡(1)反射光線上的次鏡(2)，所述光軸OO′與次鏡(2)的中心垂直，所述主鏡(1)面型為凹的拋物面，所述次鏡(2)面型為凸雙曲面，其特征在于：還包括位于光軸OO′一側(cè)的第三鏡(3)和位于光軸OO′另一側(cè)的第四鏡(4)，所述次鏡(2)的出射光線上一次像面的位置設(shè)置有折軸鏡(5)和視場(chǎng)光闌(6)，所述折軸鏡(5)將出射光線反射至第三鏡(3)上，所述光線經(jīng)第三鏡(3)通過(guò)Lyot光闌(7)光線入射至第四鏡(4)，經(jīng)第四鏡(4)反射后，光線會(huì)聚于焦平面(8)，所述第三鏡(3)面型為凹的高次非球面，所述第四鏡(4)面型為凹的橢球面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述全反射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述經(jīng)過(guò)該全反射光學(xué)系統(tǒng)為線視場(chǎng)，所述各個(gè)視場(chǎng)的主光線都垂直入射至焦平面(8)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述全反射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述第三鏡(3)出射光線為平行光，由主鏡(1)、次鏡(2)、折軸鏡(5)和第三鏡(3)可以構(gòu)成一個(gè)無(wú)焦光學(xué)系統(tǒng)，其角放大率為主鏡(1)直徑和Lyot光闌(7)直徑之比。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述全反射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述折軸鏡(5)與光軸OO′夾角可以根據(jù)實(shí)際應(yīng)用上下調(diào)節(jié)，但不能遮攔光線。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述全反射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述折軸鏡(5)與光軸OO′夾角是45°。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述全反射光學(xué)系統(tǒng)，其特征在于：所述折軸鏡(5)為平面鏡。