[實用新型]硅襯底上外延生長的鋁鎵銦磷發光二極管無效
| 申請號: | 200920021649.6 | 申請日: | 2009-04-29 |
| 公開(公告)號: | CN201392846Y | 公開(公告)日: | 2010-01-27 |
| 發明(設計)人: | 李樹強;徐現剛;張新;馬光宇;吳小強;盧振 | 申請(專利權)人: | 山東華光光電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 250101山東省*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 襯底 外延 生長 鋁鎵銦磷 發光二極管 | ||
【權利要求書】:
1.一種硅襯底上外延生長的鋁鎵銦磷發光二極管,其特征是:該發光二極管的外延結構采用硅襯底,在硅襯底上由下至上依次包括砷化鎵低溫緩沖層、砷化鎵高溫緩沖層、DBR反射層、鋁鎵銦磷下限制層、多量子阱發光區、鋁鎵銦磷上限制層、電流擴展層。
2.根據權利要求1所述的硅襯底上外延生長的鋁鎵銦磷發光二極管,其特征是:所述砷化鎵高溫緩沖層和DBR反射層之間設有砷化鎵歐姆接觸層。
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