[發(fā)明專利]電子裝置殼體無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910312293.6 | 申請日： | 2009-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN102111969A | 公開（公告）日： | 2011-06-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 姜傳華;杜琪健 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳富泰宏精密工業(yè)有限公司 |
| 主分類號： | H05K5/00 | 分類號： | H05K5/00;C09D133/00;C09D163/00;C09D175/04;C09D161/06;C09D7/12 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 電子 裝置 殼體 | ||
1.一種電子裝置殼體，其包括一基體、一形成于基體表面的金屬質(zhì)感層及一形成于金屬質(zhì)感層表面的面漆層，其特征在于：所述面漆層中含有納米二氧化鈦。
2.如權(quán)利要求1所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述面漆層中還包含有納米二氧化硅及基漆。
3.如權(quán)利要求2所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述納米二氧化鈦與納米二氧化硅的質(zhì)量比為6-8∶1-2。
4.如權(quán)利要求2所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述基漆中包含有丙烯酸樹脂，環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂或酚醛樹脂。
5.如權(quán)利要求1所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述金屬質(zhì)感層以真空鍍膜的方式制成，其厚度為10-500nm。
6.如權(quán)利要求5所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述金屬質(zhì)感層為二氧化鈦層。
7.如權(quán)利要求5所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述金屬質(zhì)感層為二氧化鈦層與二氧化硅層的復合層。
8.如權(quán)利要求5所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述金屬質(zhì)感層為二氧化鈦層、二氧化硅層與氧化鈮層、氧化鋯層、氧化鋁層及氧化鉭層中的任何一層的復合層。
9.如權(quán)利要求1所述的電子裝置殼體，其特征在于：所述基體由塑料、玻璃或陶瓷制成。
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