[發(fā)明專利]一種化學鍍鈀液有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910312132.7 | 申請日: | 2009-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN101709462A | 公開(公告)日: | 2010-05-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吳道新;肖忠良;劉迎;許國軍 | 申請(專利權)人: | 長沙理工大學 |
| 主分類號: | C23C18/44 | 分類號: | C23C18/44 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務所 43114 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410114 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 化學 鍍鈀液 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及一種化學鍍(electroless)鈀液。
背景技術
封裝載板及其它印刷電路板板表面經過化學鍍鎳,化學鍍鈀,浸金(ENEPIG)處理,獲得 了鎳/鈀/金涂層的技術性能,具有優(yōu)良的可焊接性、可打線性、平整性、抗氧化性、耐熱 性及長期可靠性等。鈀與金有著不同的沉積硬度與熔點,但是兩者都有優(yōu)越的抗氧化性能、 在高溫高濕的氛圍中性能穩(wěn)定。
化學鍍鈀及鈀合金在某些應用上已經發(fā)展成了化學鍍金的一種更經濟的代替工藝。化學 鍍鈀主要應用于雙列式封裝電路(DIPS)以及其它的各種混合電路中,特別是經常用于搭載半 導體凸塊、半導體的封裝基板、便攜電話基板等。使用的主要目的是提高基底金屬材料的耐 腐蝕性、焊料接合性、引線焊接性。
作為化學鍍鈀液可以列舉出專利文獻CN?101228293A、專利文獻CN?101440486A記載的 鍍覆液。這些體系中應用的是肼鍍槽,缺點是隨著鍍槽中肼的消耗,鍍覆速度急劇下降。次 磷酸鍍槽則可在很長一段時間內保持穩(wěn)定的鍍速,且產生的鈀涂層光滑具有高光澤,但在pH 大于10時將樣品移出鍍液時會造成瞬時裂紋和脫層。同時以氨作為主要絡合劑的體系,在較 高的溫度下,如40攝氏度以上,氨揮發(fā)鍍槽中pH急劇變化,不利于工業(yè)生產。
專利文獻:日本已審專利公告NO.昭46(1971)-26764中所述作為工業(yè)應用的化學鍍鈀 液,包含水溶性鈀鹽、乙二胺四乙酸,乙二胺和次磷酸鈉,不僅儲存穩(wěn)定性差,而且在工業(yè) 生產中短時間內會劣化。
專利文獻:日本未審專利公開No.平7(1995)-62549公開了一種化學鍍鈀液,其包含水 溶性鈀鹽,氨和胺類化合物、脂肪族單羧酸、脂肪族二羧酸等。當鍍液連續(xù)使用時,鈀的鍍 覆速率隨時間而改變,難以控制薄厚。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠在工業(yè)化規(guī)模生產中應用的化學鍍鈀液。該鍍液具有pH 容易調節(jié)、沉積速率穩(wěn)定、浴壽命長、優(yōu)異的浴穩(wěn)定性的特點,能獲得無裂縫且含磷量極少 的耐腐蝕性、焊料接合性和引線焊接性優(yōu)異的鈀膜。
本發(fā)明的化學鍍鈀液包括:可溶性鈀鹽0.2-2g/L、第一絡合劑5-160g/L、第二絡合劑 1-80g/L和穩(wěn)定劑10-50mg/L;還原劑2-20g/L;所述的第二絡合劑為2-7個碳原子的的醇胺類 化合物、少于7個碳原子的胺類化合物、氨基羧酸類化合物的一種或多種。
優(yōu)選可溶性鈀鹽0.4-1.2g/L、第一絡合劑20-100g/L、第二絡合劑20-50g/L、穩(wěn)定劑 20-30mg/L和還原劑4-12g/L。
所述的醇胺類化合物為異丙醇胺、烷基醇胺、乙醇胺、二乙醇胺或三乙醇胺,所述的胺 類化合物為乙酸胺、乙二胺、丙二胺,所述的氨基羧酸類化合物為氨三乙酸,乙二胺四乙酸 、氨基乙酸、氨二丙酸、甘氨酸、檸檬酸、蘋果酸以及它們的堿金屬鹽或銨鹽中的一種。
第一絡合劑為氨和二胺化合物中的至少一種,優(yōu)選為氨、乙二胺、乙二胺四乙酸二鈉或 亞甲基二胺。
所述的穩(wěn)定劑為硫脲、烷基硫脲、硫代硫酸鹽、鉍化合物的任一種或多種。
所述還原劑為次磷酸鈉或亞磷酸鈉。
還可以在所述的鍍鈀液中添加1-100g/L的pH緩沖劑:氨水,甲酸、鹽酸、磷酸、草酸、 檸檬酸、鄰苯二甲酸及它們的堿金屬鹽或銨鹽,將鍍鈀液pH調節(jié)為6-10。
本發(fā)明的化學鍍鈀液優(yōu)選以下含量的組分組成:以鈀重量計算的可溶性鈀鹽0.8g/L、質 量分數25%的氨水100mL·L-1、三乙醇胺50mL·L-1、硫脲25mg·L-1、次磷酸鈉5g/L 。
本發(fā)明的化學鍍鈀液的優(yōu)點如下:
pH不穩(wěn)定對化學鍍鈀生產過程影響極大,因為在不同的pH值下第一絡合劑與鈀離子的絡 合常數不同,絡合產物也不同,因此pH過低會降低鍍速,同時影響浴液中鈀離子的濃度,進 而浴液中鈀的電位,甚至有可能使得浴液中不能進行自催化還原反應,沒有鈀膜析出;當 pH過高會使得鈀膜表面不平整,甚至在鈀膜表面出現裂縫。而鈀還原反應本身會產生氫離子 ,所以穩(wěn)定pH值十分關鍵,本發(fā)明的第二絡合劑具有堿性能很好pH調節(jié)能力從而保證浴液的 pH穩(wěn)定,從而有穩(wěn)定的鍍覆速度利于工業(yè)生產。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態(tài)化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法,例如光分解、粒子輻射
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