[發明專利]光學特性測量系統與方法無效
| 申請號: | 200910311948.8 | 申請日: | 2009-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN102103034A | 公開(公告)日: | 2011-06-22 |
| 發明(設計)人: | 葉肇懿;黃仲志;顏榮毅 | 申請(專利權)人: | 富士邁半導體精密工業(上海)有限公司;沛鑫能源科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201600 上海市松江區*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 特性 測量 系統 方法 | ||
1.一種光學特性測量系統,其特征在于:所述測量系統包括一聚光元件、一用于把持所述聚光元件的把持部、一用于獲取光斑的影像處理裝置、一用于承放所述影像處理裝置的承載臺和一測量儀,所述承載臺與所述把持部相對并可相對于把持部移動,以調整光線通過所述聚光元件在所述影像處理裝置的光斑大小,所述測量儀用于在所述影像處理裝置獲取最小光斑時,記錄所述聚光元件與所述影像處理裝置間的距離。
2.如權利要求1所述的光學特性測量系統,其特征在于:所述影像處理裝置包括一CCD傳感器。
3.如權利要求1所述的光學特性測量系統,其特征在于:所述影像處理裝置包括一CMOS傳感器。
4.如權利要求1所述的光學特性測量系統,其特征在于:還包括與影像處理裝置相連的一顯示裝置,所述顯示裝置顯示影像處理裝置獲取的光斑影像。
5.如權利要求1所述的光學特性測量系統,其特征在于:還包括一比較器,所述比較器在影像處理裝置獲取的光斑最小時向測量儀輸出控制信號,使測量儀記錄此時的影像處理裝置到聚光元件中心的距離。
6.一種光學特性量測方法,用于測量一聚光元件的實際焦距,包括以下步驟:
a.提供一影像處理裝置;
b.將影像處理裝置放置于聚光元件聚光的一側;
c.提供一承載臺和一把持部,所述影像處理裝置承放于承載臺上面,所述把持部將所述聚光元件把持固定,所述承載臺可相對于把持部移動;
d.移動承載臺直至影像處理裝置獲得最小光斑;
e.提供一測量儀記錄此時影像處理裝置受光面到聚光元件中心的距離值為聚光元件的焦距值。
7.如權利要求6所述的光學特性量測方法,其特征在于:所述影像處理裝置系包括一CCD傳感器。
8.如權利要求6所述的光學特性量測方法,其特征在于:所述影像處理裝置系包括一CMOS傳感器。
9.如權利要求6所述的光學特性量測方法,其特征在于:還提供一與影像處理裝置相連的一顯示裝置,所述顯示裝置顯示影像處理裝置獲取的光斑影像。
10.如權利要求6所述的光學特性量測方法,其特征在于:還提供一比較器,所述比較器在影像處理裝置獲取的光斑最小時向測量儀輸出控制信號使測量儀記錄此時的影像處理裝置受光面到聚光元件中心的距離。
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