[發明專利]銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的制備方法有效
| 申請號: | 200910311903.0 | 申請日: | 2009-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN101740667A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 魏浩;蘇言杰;郭煒;張亞非;王艷艷 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18 |
| 代理公司: | 上海交達專利事務所 31201 | 代理人: | 王錫麟;王桂忠 |
| 地址: | 200240 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銅鋅錫硒 太陽電池 吸收 薄膜 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及的是一種太陽電池技術領域的制備方法,具體是一種銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的制備方法。
背景技術
銅鋅錫硒(Cu2ZnSnSe4,英文縮寫為CZTSe)禁帶寬度與半導體太陽電池所要求的最佳禁帶寬度(1.5eV)十分接近。且該材料是利用在地殼上蘊含量較高的鋅和錫元素代替了銅銦鎵硒(Cu2InGaSe2,英文縮寫為CIGS)中的銦、鎵元素,對環境友好,是替代銅銦鎵硒太陽電池吸收層的候選材料之一。
經對現有技術的文獻檢索發現,Kim等在《Physica?Status?Solidi(A)Applicationsand?Materials》2007年第204卷第10期第3373~3379頁發表“Pulsed?laser?deposition?ofquaternary?Cu2ZnSnSe4?thin?films”(脈沖激光沉積制備Cu2ZnSnSe4薄膜)以來,專業人員已經開發出脈沖激光沉積、濺射、真空鍍膜等Cu2ZnSnSe4制備方法,但這些方法存在著設備昂貴、不易于大面積沉積等缺點。
發明內容
本發明針對現有技術存在的上述不足,提供一種銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的制備方法,無污染,反應條件溫和簡單、成本低廉。
本發明是通過以下技術方案實現的,本發明包括以下步驟:
步驟一、制備銅鋅錫硒納米粒子:取二價鋅鹽、二價或四價錫鹽、一價或二價銅鹽以及硒粉以(1~2.2)∶(1~1.2)∶(2~2.2)∶(4~8.8)的摩爾比并混合均勻,經加熱純化處理后得銅鋅錫硒納米粒子;
所述的二價鋅鹽為乙酰丙酮鋅、氯化鋅、硫酸鋅或醋酸鋅中的一種;
所述的二價或四價錫鹽為醋酸錫、辛酸錫、乙酰丙酮溴化錫或乙酰丙酮氯化錫中的一種;
所述的銅鹽為乙酰丙酮銅、氯化亞銅、氰化亞銅、氯化銅或醋酸銅中的一種。
所述的加熱純化處理是指:以100~500℃加熱1~24小時后將產物溶于有機溶劑A后經離心獲得下層沉淀,然后將下層沉淀溶于有機溶劑B并經二次離心獲得上清液,向上清液中加入油胺和有機溶劑A,再經三次離心后得到的沉淀即為銅鋅錫硒納米粒子。
所述的有機溶劑A和有機溶劑B是指:乙醇、乙二醇、正戊醇、正丁醇、叔丁醇、二甲苯、正己烷、三氯乙烯、四氯乙烯或氯仿中的任意兩種且互不相同。
所述的油胺的加入量為二價鋅鹽摩爾數的5~50倍。
步驟二、將銅鋅錫硒納米粒子溶于溶解劑中,經超聲分散處理得到銅鋅錫硒納米粒子漿液;
所述的溶解劑為乙二醇、二甲苯、四氯乙烯或三氯乙烯中的一種。
所述的銅鋅錫硒納米粒子漿液中銅鋅錫硒納米粒子的濃度為1mg/mL~100mg/mL。
步驟三、將銅鋅錫硒納米粒子漿液涂覆于基底上,對基底進行熱處理,制得銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜。
所述的涂覆是指:采用浸涂、旋涂、噴墨打印或絲網印刷方式在基底上涂覆1~10次;
所述的熱處理是指:在氮氣、氦氣或氬氣氣氛下以常壓或1~10atm氣壓在100~700℃環境下加熱0.5~10小時。
與現有技術相比,本發明采用非真空化學方法,將銅鋅錫硒納米粒子溶于有機溶劑中得到納米漿液,直接涂覆于基底上,經過簡單熱處理即可得到太陽電池吸收層薄膜。本發明的方法避免了設備昂貴、不易于大面積沉積等缺點,具有綠色無污染,設備要求簡單,適合工業化大規模生產的優點。
附圖說明
圖1為實施例1制備的銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的X射線衍射圖譜。
圖2為實施例2制備的銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的X射線衍射圖譜。
圖3為實施例3制備的銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的X射線衍射圖譜。
圖4為實施例4制備的銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的X射線衍射圖譜。
圖5為實施例5制備的銅鋅錫硒太陽電池吸收層薄膜的X射線衍射圖譜。
具體實施方式
下面對本發明的實施例作詳細說明,本實施例在以本發明技術方案為前提下進行實施,給出了詳細的實施方式和具體的操作過程,但本發明的保護范圍不限于下述的實施例。
第一部分:制備銅鋅錫硒納米粒子
例1
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





