[發明專利]曲折多匝結構巨磁阻抗效應傳感器無效
| 申請號: | 200910307531.4 | 申請日: | 2009-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN101644748A | 公開(公告)日: | 2010-02-10 |
| 發明(設計)人: | 周志敏;周勇;陳磊;雷沖;丁文 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | G01R33/09 | 分類號: | G01R33/09;H01L43/08 |
| 代理公司: | 上海交達專利事務所 | 代理人: | 王錫麟;王桂忠 |
| 地址: | 200240*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 曲折 結構 磁阻 效應 傳感器 | ||
1.一種曲折多匝結構巨磁阻抗效應傳感器,包括:帶SiO2層的硅襯底、軟磁多層膜和引腳,其中:軟磁多層膜為方波形的曲折多匝結構,并位于帶SiO2層的硅襯底上,引腳的一端與軟磁多層膜固定連接,另一端固定于帶有SiO2層的硅襯底上,其特征在于,軟磁多層膜的匝數為10匝,匝間距離為60μm,峰-峰值為5mm,引腳的個數為21個且分兩組各10個和11個并且分別位于軟磁多層膜的上、下兩端并與銅層固定連接;
所述的軟磁多層膜包括:銅層和軟磁薄膜層,其中:銅層位于軟磁薄膜層內部,軟磁薄膜層的寬度為200μm,銅層的寬度為120μm,所述銅層上側的軟磁薄膜與銅層下側的軟磁薄膜厚度相同,所述銅層的厚度為1μm-3μm;
所述軟磁薄膜層為Ni-Fe混合材料制成,其中Ni元素所占的組分比率為82%。
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