[發(fā)明專利]鍍膜裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910307030.6
• 申請日: 2009-09-15
• 公開（公告）號: CN102021528A
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發(fā)明（設計）人: 王仲培
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34;C23C16/54
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種鍍膜裝置包括一個鍍膜腔體、一個傳送帶、至少一個隔板以及至少一個支架，所述至少一個傳送帶設置在所述鍍膜腔體內(nèi)側(cè)底部，所述至少一個隔板設置在所述鍍膜腔體內(nèi)將所述鍍膜腔體區(qū)分為兩個或多個相互隔開的容置空間，所述隔板可相對所述鍍膜腔體滑動從而使相鄰的兩個容置空間相互聯(lián)通或者相互隔離，所述至少一支架容置在由所述隔板間隔而成的容置空間內(nèi)，并能在所述傳送帶的帶動下依次進入不同的容置空間內(nèi)進行鍍膜。

2.如權利要求1所述的鍍膜裝置，其特征在于：所述鍍膜腔體是由一個底板、一個頂板、兩個側(cè)板以及兩個艙門構成的一個封閉的反應腔，所述兩個艙門分別設置于所述鍍膜腔體的兩端并分別樞接在其中一所述側(cè)板的側(cè)邊上。

3.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于：在其中一所述側(cè)板上沿豎直方向設置有貫穿該側(cè)板的開槽，所述隔板可滑動地設置在所述開槽內(nèi)。

4.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于：在所述底板的內(nèi)側(cè)表面上形成有凹槽，所述傳送帶設置在所述凹槽內(nèi)。

5.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于：所述支架包括兩個相對設置支座，以及連接所述兩個支座的多個立柱，所述立柱間隔設置在所述兩個支座之間。

6.如權利要求2所述的鍍膜裝置，其特征在于：在所述每一容置空間內(nèi)均設置有用以鍍膜的靶材、氣體源以及陰極管。