[發(fā)明專利]承載盤以及具有該承載盤的頂出治具無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910306339.3 | 申請日: | 2009-08-31 |
| 公開(公告)號: | CN102002680A | 公開(公告)日: | 2011-04-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡泰生 | 申請(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 承載 以及 具有 頂出治具 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及鍍膜領(lǐng)域,尤其涉及一種便于取出鍍膜傘架上的工件的承載盤以及具有該承載盤的頂出治具。
背景技術(shù)
當(dāng)前,許多工業(yè)產(chǎn)品表面都鍍有功能薄膜,以改善產(chǎn)品表面的各種性能。如在光學(xué)鏡片的表面鍍上一層抗反射膜,以降低鏡片表面的反射率,降低入射光通過鏡片的能量損耗。又如在某些濾光元件表面鍍上一層濾光膜,可濾掉某一預(yù)定波段的光,制成各種各樣的濾光片。一般地,鍍膜方法主要包括離子鍍膜法、射頻磁控濺鍍、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法等。Ichiki,M.等人在2003年5月發(fā)表于2003Symposium?on?Design,Test,Integration?andPackaging?of?MEMS/MOEMS的論文Thin?film?formation-a?fabrication?on?non-planarsurface?by?spray?coating?method中介紹了通過噴涂在非平面形成薄膜的方法。
蒸鍍是一種物理氣相沉積技術(shù),即以物理的方式進(jìn)行薄膜沉積。具體地,其通過離子束或電子束對蒸鍍材料進(jìn)行加熱,使蒸鍍材料變成氣態(tài)或離子態(tài),而沉積在待鍍膜的工件表面以形成一蒸鍍材料膜層。
頂出治具通常包括鍍膜傘架和蒸鍍靶材。鍍膜傘架上具有多個(gè)用于放置待鍍膜的工件的開口。蒸鍍靶材設(shè)置于鍍膜傘架下方,通過蒸發(fā)而將靶材沖至鍍膜傘架,從而對待鍍膜的工件朝向鍍膜傘架下方的一面進(jìn)行鍍膜。蒸鍍時(shí)蒸鍍源的離子在真空腔體內(nèi)是以無序的方式運(yùn)動(dòng),容易從固定式傘架的周圍流動(dòng)至傘架上方,故鍍膜傘架上的開口通常與待鍍膜的工件大小相當(dāng),如此,則對鍍膜完成后取出工件之一過程帶來麻煩,人工取出工件時(shí),不僅效率低,而且還容易污染工件。
因此,有必要提供一種便于取出鍍膜傘架上的工件的承載盤及具有該承載盤的頂出治具。
發(fā)明內(nèi)容
一種承載盤,用于承載鍍膜傘架。所述鍍膜傘架具有多個(gè)用于收容待鍍膜的工件的收容通孔。所述承載盤包括承盤架和多個(gè)自承盤架向鍍膜傘架方向延伸的頂出柱。所述承盤架的形狀與所述鍍膜傘架的形狀相對應(yīng)。所述多個(gè)頂出柱與多個(gè)收容通孔一一對應(yīng),用于分別穿入多個(gè)收容通孔中以頂出收容通孔中的工件。
一種頂出治具,包括鍍膜傘架和承載盤。所述鍍膜傘架具有相對的內(nèi)表面和外表面。所述鍍膜傘架還具有多個(gè)貫穿所述內(nèi)表面和外表面的收容通孔,所述收容通孔用于收容待鍍膜的工件。所述承載盤用于承載鍍膜傘架,所述承載盤包括承盤架和多個(gè)頂出柱。所述承盤架的形狀與所述鍍膜傘架的形狀相對應(yīng),且具有與所述鍍膜傘架的內(nèi)表面相對的第一表面。所述頂出柱自所述第一表面向鍍膜傘架的內(nèi)表面方向延伸,所述多個(gè)頂出柱與多個(gè)收容通孔一一對應(yīng),用于分別穿入多個(gè)收容通孔中以頂出收容通孔中的工件。
本技術(shù)方案提供的頂出治具的承載盤具有與所述鍍膜傘架的多個(gè)收容通孔一一對應(yīng)的多個(gè)頂出柱,可將收容于收容通孔內(nèi)的工件頂出。使用本技術(shù)方案提供的頂出治具可方便地取出工件,有利于提高鍍膜效率。
附圖說明
圖1是本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的頂出治具的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的頂出治具的鍍膜傘架的剖面示意圖。
圖3是使用本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的頂出治具頂出工件的示意圖。
圖4是本技術(shù)方案第二實(shí)施例提供的承載盤的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖及多個(gè)實(shí)施例,對本技術(shù)方案提供的承載盤和頂出治具作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。
請參閱圖1,本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供一種頂出治具100,用于頂出完成鍍膜的工件。所述頂出治具100包括鍍膜傘架10和承載盤20。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





