[發明專利]撓式模具的制造方法

無效

• 申請號: 200910302320.1
• 申請日: 2009-05-14
• 公開（公告）號: CN101885216A
• 公開（公告）日: 2010-11-17
• 發明（設計）人: 黃雍倫
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: B29C33/38
• 分類號: B29C33/38;B29L11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及一種模具的制造方法，特別是涉及一種撓式模具的制造方法。

背景技術

傳統的微透鏡陣列具有多種方法，光阻熱熔法是其中一種，其是利用微影與蝕刻制程，在一塊基板上形成透鏡承載層及光阻層，并利用光罩在光阻層上曝光顯影來定以微透鏡陣列的成型區域，在將成型區域之外的承載層及光阻層蝕刻去除，以形成微結構，再經過加熱處理，使該微結構熔化，并藉由內聚力與表面張力的作用使該微結構可自動凝聚成半球狀之微透鏡陣列結構。

傳統的光阻熱熔法制造的微透鏡曲率半徑雖可以由光阻層的厚度控制，但是，半球狀表面的控制不易精確控制，因此整體之制程不穩定。

越來越多類型的微透鏡采用納米壓印技術制造，在傳統納米壓印過程中，通常會在母模上以澆注的方式涂布聚二甲基硅氧烷(PDMS，poly?dimethyl?siloxane)材料，加熱固化后在將PDMS從母模上脫下以得到才質為PDMS的軟模，并且用該軟模進行壓印得到微透鏡。

但是，在將PDMS澆注到母模上后，PDMS內部會有氣泡，從而使得固化后的PDMS軟模內部相應產生空洞以影響軟模的質量，進而使得壓印成型的微透鏡的參數會有所瑕疵。

發明內容

有鑒于此，有必要提供一種可排除氣泡的撓式模具的制造方法。

一種撓式模具的制造方法，其包括：提供一個基板和一個鐵氟龍材料制成的固定裝置，所述固定裝置包括一個圓形本體及設置在所述本體幾何中心的通孔；將所述基板收容在所述固定裝置的通孔內，并將聚二甲基硅氧烷放置在所述基板；以150至350轉/分的轉速、旋轉所述基板45至90秒以將聚二甲基硅氧烷涂布在所述基板上形成聚二甲基硅氧烷膜層；采用壓模壓印所述聚二甲基硅氧烷膜層；將所述固定裝置與所述基板分離；在100至160度環境下加熱聚二甲基硅氧烷膜層20至35分鐘使聚二甲基硅氧烷膜層固化；將所述聚二甲基硅氧烷膜層與所述基板分離得到撓式模具。

與現有技術相比，本發明實施例的制造方法將基板設置在鐵氟龍材質的本體內部并且采用旋轉涂布使得聚二甲基硅氧烷擴散至基板的整個表面，由于離心力的作用，聚二甲基硅氧烷內的氣泡會跑至基板邊緣和本體上從而間接消除了氣泡，使得固化后的聚二甲基硅氧烷內部不會產生空洞以得到高質量的撓式模具。

附圖說明

圖1是本發明實施例撓式模具的制造方法的流程圖，該方法涉及一個固定裝置。

圖2是圖1中固定裝置的平面示意圖。

圖3是圖2中III-III的剖面示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖對本發明作進一步詳細說明。

如圖1所示，一種撓式模具的制造方法，其包括：

提供一個基板和一個鐵氟龍材料制成的固定裝置，所述固定裝置包括一個圓形本體及設置在所述本體幾何中心的通孔；

將所述基板收容在所述固定裝置的通孔內，并將10至15立方厘米的聚二甲基硅氧烷放置在所述基板；

以150至350轉/分的轉速、旋轉所述基板45至90秒以將聚二甲基硅氧烷涂布在所述基板上形成聚二甲基硅氧烷膜層；

采用壓模壓印所述聚二甲基硅氧烷膜層；

將所述固定裝置與所述基板分離；

在100至160度環境下加熱聚二甲基硅氧烷膜層20至35分鐘使聚二甲基硅氧烷膜層固化；

將所述聚二甲基硅氧烷膜層與所述基板分離得到撓式模具。

請一并參閱圖2及圖3，固定裝置10在撓式模具的制造方法中用來固定圓形基板20。固定裝置10包括圓形本體11、設置在本體11幾何中心的通孔12和橡膠制成的O形環13。

基板20可以為玻璃基板或者硅基板。

本體11的材料為鐵氟龍(Teflon)，通孔12的直徑D1大于圓形基板20的直徑。

本體11具有相對的第一端面111和第二端面112，通孔12的孔壁上靠近第二端面112位置設置有周向凹槽120。O形環13設置在周向凹槽120內，且直徑D2等于或略小于圓形基板20的直徑。

當然，周向凹槽120也可以靠近第一端面111。

由于圓形基板20與本體11之間具有O形環13，其可將圓形基板20固定在通孔12內而不會在旋轉過程發生移位；并且在旋轉過程中，O形環13具有緩沖功能可以防止圓形基板20與本體11發生碰撞。