[發明專利]快門擋片的制作方法

無效

• 申請號: 200910301687.1
• 申請日: 2009-04-20
• 公開（公告）號: CN101866093A
• 公開（公告）日: 2010-10-20
• 發明（設計）人: 莊信弘
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G03B9/08
• 分類號: G03B9/08;G03F7/32;G03F7/00;G03F1/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種制作快門擋片的方法，包括：

提供鈹銅基板，所述鈹銅基板具有相對的第一表面和第二表面；

在所述第一表面形成第一光阻層，在所述第二表面形成第二光阻層；

對第一光阻層和第二光阻層進行曝光及顯影，以使第一光阻層形成與快門擋片形狀相對應的多個第一剩余光阻，使第二光阻層形成與快門擋片形狀相對應的多個第二剩余光阻，并且每個第一剩余光阻均與一個第二剩余光阻相對應；

采用氯化銅的酸性溶液對所述鈹銅基板進行蝕刻，從而得到多個分離的快門擋片結構，每個快門檔片結構均包括一個第一剩余光阻、一個第二剩余光阻以及一個位于第一剩余光阻和第二剩余光阻之間的快門檔片；

去除每個快門擋片結構的第一剩余光阻及第二剩余光阻，得到多個快門擋片。

2.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，所述鈹銅基板的第一表面與第二表面的間距為10微米至100微米。

3.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，所述鈹銅基板的第一表面與第二表面的間距為50微米。

4.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，在形成第一光阻層與第二光阻層之前，還包括對所述第一表面和第二表面進行清洗處理的步驟。

5.如權利要求5所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，在對第一表面和第二表面進行清洗處理之后，在形成第一光阻層與第二光阻層之前，還包括在第一表面和第二表面涂布六甲基二硅胺的步驟。

6.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，在對第一光阻層與第二光阻層進行曝光之前，還包括對第一光阻層與第二光阻層進行第一次烘烤的步驟，以去除第一光阻層和第二光阻層中的溶劑。

7.如權利要求6所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，在對所述第一光阻層與第二光阻層進行顯影之后，在對鈹銅基板進行蝕刻之前，還包括對第一剩余光阻和第二剩余光阻進行第二次烘烤的步驟，以進一步去除第一剩余光阻和第二剩余光阻中的溶劑。

8.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，所述光罩包括透光區域及多個非透光區域，每個非透光區域的形狀與快門擋片的形狀相同，多個非透光區域相互間隔設置，所述透光區域為光罩中除非透光區域之外的區域，所述透光區域用于在曝光時透過光線，所述非透光區域用于在曝光時避免光線透過。

9.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，所述光罩包括非透光區域及多個透光區域，每個透光區域的形狀與快門擋片的形狀相同，多個透光區域相互間隔設置，所述非透光區域為光罩中除透光區域之外的區域，所述透光區域用于在曝光時透過光線，所述非透光區域用于在曝光時避免光線透過。

10.如權利要求1所述的快門擋片的制作方法，其特征在于，所述氯化銅的酸性溶液包括氯化銅和濃度為37％的鹽酸，所述氯化銅的含量為100克每升，所述濃度為37％的鹽酸的體積含量為100毫升每升。