[發明專利]一種電光調Q激光諧振腔有效
| 申請號： | 200910272682.0 | 申請日： | 2009-11-06 |
| 公開（公告）號： | CN101719626A | 公開（公告）日： | 2010-06-02 |
| 發明（設計）人： | 齊麗君;朱長虹;朱曉;朱廣志;郭飛 | 申請（專利權）人： | 華中科技大學 |
| 主分類號： | H01S3/16 | 分類號： | H01S3/16;H01S3/115 |
| 代理公司： | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人： | 曹葆青 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電光 激光 諧振腔 | ||
【權利要求書】：
1.一種電光調Q激光諧振腔，包括依次位于同一光路上的激光介質(3)、電光調Q晶體和輸出鏡(6)，激光介質(3)的外端的端面上鍍有激光波長的高反膜層和對泵浦光波長高透的膜層，泵浦源(2)采用側面或端面泵浦方式，其特征在于：所述電光調Q晶體靠近激光介質(3)的通光面為切割面，該切割面上鍍有增透膜層，電光調Q晶體遠離激光介質(3)的通光面與所述切割面的夾角等于α或90°-α，其中，α＝90-arctg(n)，n為電光調Q晶體的折射率。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華中科技大學，未經華中科技大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910272682.0/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
