[發明專利]一種抵抗幾何攻擊的矢量地圖水印方法

無效

• 申請號: 200910272657.2
• 申請日: 2009-11-04
• 公開（公告）號: CN102054262A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發明（設計）人: 彭智勇;彭煜瑋;汪傳建;余亮;王俊舟
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: G06T1/00
• 分類號: G06T1/00
• 代理公司: 武漢天力專利事務所 42208
• 代理人: 嚴彥;馮衛平

1.一種抵抗幾何攻擊的矢量地圖水印方法，其特征在于：包括水印特征域提取過程、水印生成過程、水印嵌入過程和水印檢測過程，

(1)所述水印特征域提取過程，對于一副待加水印的二維矢量地圖M，M中的地物層中包含n個地物，每個地物按數據庫模式R(p，A0，A1...，At，the_geom)存儲得到n個元組；所述數據庫模式R(p，A0，A1...，At，the_geom)中p是唯一標識元組所存地物的主鍵，A0，A1...，At是元組所存地物其他的相關屬性，the_geom是元組所存的地理屬性；提取水印特征域的步驟如下，

步驟1，使用哈希函數對所有元組的主鍵進行映射，得到主鍵哈希值，并對主鍵哈希值進行排序；

步驟2，構造地物對，即根據主鍵哈希值的順序選擇地物，對所有地物進行兩兩分組，分組之后得到了n/2個地物對；

步驟3，計算每個地物對中兩個地物的相離關系度量值，得到一個度量值數組MM＝{MM₁，MM₂，...，MM_n/2}，即為水印特征域；

(2)所述水印生成過程，實現過程如下，

設原始水印信息為a＝(a₁，a₂，...，a_m)，其中任一水印位a_i取值’0’或’1’，i＝1，2，...，m；設水印信息重復嵌入c遍；設水印向量為W＝(W₁，W₂...，W_q)，其中q＝mc且q＜＝n/2；

將原始水印信息a重復c遍，即生成水印向量W；

(3)所述水印嵌入過程，對照水印生成過程所得W＝(W₁，W₂...，W_q)和水印特征域提取過程所得MM＝{MM₁，MM₂，...，MM_n/2}，根據嵌入的水印位W_j為’0’或’1’，按規則對相離關系度量值MM_j的最低有效位進行修改，j＝1，2，...，q；所述修改通過縮放相離關系度量值MM_j所屬地物對中某個地物實現；

(4)所述水印檢測過程，實現過程如下，

對于一副待檢測的二維矢量地圖M’，首先采用水印特征域提取過程得到水印特征域MM”，然后根據水印嵌入過程的規則提取嵌入二維矢量地圖M’的水印向量；

設提取所得水印向量為W’＝(W’₁，W’₁...，W’_q)，其中W’_j取值’0’或’1’，j＝1，2，...，q；采用“少數服從多數”的投票機制來表決嵌入的水印信息是’0’還是’1’，通過投票之后確定的原始水印向量a＝(a₁，a₂，...，a_m)，其中任一水印位a_i取值’0’或’1’，i＝1，2，...，m。

2.如權利要求1所述抵抗幾何攻擊的矢量地圖水印方法，其特征在于：

所述水印嵌入過程中，對相離關系度量值的最低有效位進行修改的規則如下，

其中MM_j表示第j個地物對的相離關系度量值，LSB(MM_i)和LSB(MM_i)’分別表示加水印前后MM_i的最低有效位，W_j為水印向量的第j個水印位，j＝1，2，...，q；

所述水印檢測過程中，根據水印嵌入過程的規則提取水印方式如下，

其中MM”_j表示對待檢測的二維矢量地圖M’提取所得水印特征域MM”的第j位，LSB(MM”_j)’表示MM”_j的最低有效位，W’_j為水印向量W’的第j個水印位，j＝1，2，...，q。