[發明專利]單糖與C-糖苷衍生物的組合及其美容學應用有效
| 申請號: | 200910265293.5 | 申請日: | 2009-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN101766546A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發明(設計)人: | 朱利安·拉布羅;讓-蒂埃里·西莫內;帕斯卡爾·波爾特 | 申請(專利權)人: | 歐萊雅公司 |
| 主分類號: | A61K8/60 | 分類號: | A61K8/60;A61K8/69;A61K8/73;A61Q19/08;A61Q19/00;A61Q5/00;A61M5/00;A61K31/7004;A61K31/70;A61K31/715;A61P17/18 |
| 代理公司: | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 劉慧;楊青 |
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單糖 糖苷 衍生物 組合 及其 美容 應用 | ||
1.美容學組合物,其在生理學可接受的介質中包含至少一種選自 甘露糖、鼠李糖及其混合物的單糖和至少一種另外的選自C-糖苷、其 衍生物及其混合物的化合物的組合,其中C-糖苷對應于下式(I),以及 其美容學可接受的鹽,其溶劑合物,其水合物,及其異構體:
其中
·R表示直鏈的C1-C4基團,任選地被-OH、-COOH或-COOR″2 取代,R″2是C1-C4飽和的烷基:
·X表示-CH(OH)-;
·S表示木糖部分,其為吡喃糖型或呋喃糖型并且為L型或D 型;和
·鍵S-CH2-X表示具有C-端基差向異構性質的鍵,其可為α或 β。
2.權利要求1的組合物,其中S表示D-木糖。
3.權利要求1的組合物,其中R表示直鏈的C1-C3基團,任選地 被-OH、-COOH或-COOR″2取代,R″2是C1-C4飽和的烷基。
4.權利要求1的組合物,其中R表示直鏈的C1-C2基團,任選地 被-OH、-COOH或-COOR″2取代,R″2是C1-C4飽和的烷基。
5.權利要求1、3或4的組合物,其中R″2是乙基。
6.權利要求1的組合物,其中R是甲基。
7.權利要求1的組合物,其中C-糖苷衍生物選自:C-[β]-D-吡喃 木糖苷-2-羥基丙烷,C-[α]-D-吡喃木糖苷-2-羥基丙烷,其異構體,及 其混合物。
8.權利要求1的組合物,其中所述單糖的量相對于組合物的總重 量為0.001重量%到30重量%。
9.權利要求8的組合物,其中所述單糖的量相對于組合物的總重 量為0.1重量%到10重量%。
10.權利要求9的組合物,其中所述單糖的量相對于組合物的總 重量為0.5重量%到6重量%。
11.權利要求1的組合物,其中所述的另外的化合物的量相對于 組合物的總重量為0.001重量%到30重量%。
12.權利要求11的組合物,其中所述的另外的化合物的量相對于 組合物的總重量為0.1重量%到10重量%。
13.權利要求12的組合物,其中所述的另外的化合物的量相對于 組合物的總重量為0.5重量%到6重量%。
14.權利要求1的組合物用于以非治療目的減輕和/或防止皮膚或 其覆蓋物的老化跡象的美容學應用。
15.權利要求1的組合物用于以非治療目的改善膚色的光澤、用 于減輕和/或防止皺紋和/或細紋的特征、用于改善和/或減少皮膚的微 紋、用于使皮膚光滑和/或用于改善皮膚的機械性質和/或用于增加皮膚 的抗機械攻擊性和/或用于促進皮膚修復的美容學應用。
16.權利要求14的美容學應用,用于增加皮膚的抗摩搓、拉緊或 摩擦。
17.權利要求1的組合物用于以非治療目的改善皮膚的密實度和 堅實性和/或皮膚的多個區的粘附的美容學應用。
18.權利要求14的美容學應用,用于改善真皮與表皮的粘附。
19.權利要求1的組合物用于以非治療目的處理皺紋和/或細紋、 皮膚萎縮、皮膚彈性和/或緊張性缺少、真皮變薄、膠原纖維降解、皮 膚松馳、皮膚變薄/或由于暴露于紫外線照射下所引起的皮膚的任何內 部降解的美容學應用。
20.權利要求1的組合物用于以非治療目的刺激成纖維細胞和/或 角質細胞合成含有D-葡糖胺和/或N-乙?;?D-葡糖胺殘基的糖胺聚 糖,和/或用于刺激成纖維細胞和/或角質細胞合成蛋白聚糖的美容學應 用。
21.權利要求20的美容學應用,用于刺激成纖維細胞和/或角質細 胞合成透明質酸和/或含有透明質酸的蛋白聚糖。
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