[發明專利]檢查裝置和檢查方法有效
| 申請號: | 200910258514.6 | 申請日: | 2009-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN101769864A | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發明(設計)人: | 鹽田道德 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G01N21/31 | 分類號: | G01N21/31 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 檢查 裝置 方法 | ||
1.一種用于利用太赫茲波對對象進行檢查的檢查裝置,所述檢 查裝置包括:
照射單元,所述照射單元用于用太赫茲波照射所述對象;
檢測單元,所述檢測單元用于檢測從所述對象獲得的太赫茲波;
變換單元,所述變換單元用于對利用由所述檢測單元檢測到的所 述太赫茲波而獲得的所述太赫茲波的時間波形執行小波變換;
選擇單元,所述選擇單元用于從所述小波變換中的第一展開系數 中選擇預先存儲的第二展開系數,并且所述第二展開系數包括在所述 第一展開系數中;以及
比較單元,所述比較單元將所述第二展開系數的第一值與由所述 選擇單元選擇的所述第二展開系數的第二值進行比較。
2.根據權利要求1所述的檢查裝置,其中
所述第二展開系數是利用具有特征譜部分的參照物獲得的展開 系數,并且與所述特征譜部分相關,
所述檢查裝置包括確定單元,所述確定單元用于基于所述比較單 元所獲得的結果,來確定所述對象是否是所述參照物。
3.一種用于利用太赫茲波對對象進行檢查的檢查方法,所述檢 查方法包括:
用太赫茲波照射所述對象;
檢測從所述對象獲得的太赫茲波;
對利用在檢測太赫茲波的步驟中檢測到的所述太赫茲波而獲得 的所述太赫茲波的時間波形,執行小波變換;
從所述小波變換中的第一展開系數中選擇預先存儲的第二展開 系數,并且所述第二展開系數包括在所述第一展開系數中;以及
將所述第二展開系數的第一值與在選擇第二展開系數的步驟中 選擇的所述第二展開系數的第二值進行比較。
4.根據權利要求3所述的檢查方法,其中所述第二展開系數是 利用具有特征譜部分的參照物獲得的展開系數,并且所述第二展開系 數與所述特征譜部分相關,
所述檢查方法包括基于在比較第一值與第二值的步驟中獲得的 結果,確定所述對象是否是所述參照物。
5.一種在利用太赫茲波對對象進行檢查期間使用的提取方法, 所述提取方法用于從具有特征譜部分的參照物提取與所述特征譜部分 相關的展開系數,所述提取方法包括:
獲得步驟,獲得從所述參照物反射或者散射,或者透射過所述參 照物的太赫茲波的波形;
第一變換步驟,對在所述獲得步驟中獲得的太赫茲波時間波形執 行小波變換;
反變換步驟,對所述小波變換中的展開系數的一部分執行小波反 變換;
第二變換步驟,對在所述反變換步驟中獲得的所述太赫茲波時間 波形執行傅立葉變換,其中
在改變所述展開系數的所述一部分的同時,重復執行所述反變換 步驟和所述第二變換步驟。
6.根據權利要求5所述的提取方法,其中
執行所述小波反變換包括:在指定所述展開系數的所述一部分時 設置閾值,
所述提取方法被設置為用零值替換大于或等于所設置的閾值或 者小于或等于所設置的閾值的所述展開系數的值。
7.一種在利用太赫茲波對對象進行檢查期間使用的提取裝置, 所述提取裝置用于從具有特征譜部分的參照物提取與所述特征譜部分 相關的展開系數,所述提取裝置包括:
用于獲得從所述參照物反射或者散射,或者透射過所述參照物的 太赫茲波的波形的部件;
用于對由所述用于獲得太赫茲波的波形的部件獲得的太赫茲波 時間波形執行小波變換的部件;
用于對所述小波變換中的展開系數的一部分執行小波反變換的 部件;
用于對由所述用于執行小波反變換的部件獲得的所述太赫茲波 時間波形執行傅立葉變換的部件,其中
在改變所述展開系數的一部分的同時,所述用于執行小波反變換 的部件和所述用于執行傅立葉變換的部件分別重復執行小波反變換和 傅立葉變換。
8.根據權利要求7所述的提取裝置,其中
執行所述小波反變換包括:在指定所述展開系數的所述一部分時 設置閾值,
所述提取裝置被設置為用零值替換大于或等于所設置的閾值或 者小于或等于所設置的閾值的所述展開系數的值。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于佳能株式會社,未經佳能株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910258514.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:探測器裝置
- 下一篇:用于第二級渦輪噴嘴的翼型件輪廓





