[發明專利]氯化石蠟尾氣吸收工藝及設備

無效

• 申請號: 200910256573.X
• 申請日: 2009-12-30
• 公開（公告）號: CN101810986A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: 牛軍;張雷;李方臣;孫富新;管艷華;謝培建;閆志強
• 申請（專利權）人: 聊城市魯西化工工程設計有限責任公司
• 主分類號: B01D53/18
• 分類號: B01D53/18
• 代理公司: 濟南圣達專利商標事務所有限公司 37221
• 代理人: 王立曉

技術領域：

本發明涉及氯化石蠟裝置中尾氣的處理，特別涉及氯化石蠟尾氣吸收工藝和設備。

背景技術：

氯化石蠟裝置產生的尾氣主要是氯化氫氣體，國內有些氯化石蠟生產廠家將這部分尾氣送入鹽酸合成爐進行燃燒，原有的尾氣吸收(酸吸收)流程(如附圖1)情況：

尾氣先后進入一、二級降膜吸收器，一級降膜吸收器吸收60-70％的氯化氫氣體，二級降膜吸收器吸收30-40％氯化氫氣體，分別形成濃酸和稀酸，并各自進行循環吸收，用作循環液部分的酸，用一次水補充，酸濃度合格后轉出外售。

流程的缺點：稀酸達到一定濃度就得停止循環吸收，吸收過程為間歇式操作，勞動強度大，鹽酸濃度不好控制。

發明內容：

本發明的目的是提供一種氯化石蠟尾氣吸收工藝。

本發明的另一目的是提供該種氯化石蠟尾氣吸收的工藝設備。

本發明采取的技術方案為：

氯化石蠟尾氣吸收工藝，氯化石蠟尾氣先進入一級降膜吸收器，一級降膜吸收器吸收氯化氫氣體后采出成品酸進入濃酸槽，剩余氯化氫氣體進入二級降膜吸收器，經二級降膜吸收器吸收后得稀酸，采出的稀酸進入稀酸循環槽，稀酸循環槽中的稀酸由稀酸循環泵送出，一部分進入二級降膜吸收器進行循環吸收，一部分進入一級降膜吸收器進行吸收后進入濃酸槽。

所述的稀酸循環槽中循環液用一次水補充。

所述的一級降膜吸收器吸收60-70％(v/v)的氯化氫氣體，二級降膜吸收器吸收30-40％(v/v)的氯化氫氣體。

所述的進入二級降膜吸收器進行循環吸收的稀酸濃度為10-12％(v/v)。

所述的濃酸槽中鹽酸的濃度為30％-32％(v/v)。

氯化石蠟尾氣吸收的工藝設備，包括一級降膜吸收器、二級降膜吸收器、稀酸循環槽，稀酸循環槽通過稀酸循環泵與一級降膜吸收器相連。

一級降膜吸收器與濃酸槽相連。

本發明的優點：

本發明降膜吸收器生產鹽酸的連續生產工藝，與原有工藝相比，即節省了一臺濃酸循環泵，又實現了成品酸的連續出料，同時還保證了酸濃度的穩定性。

附圖說明

圖1為原有工藝流程圖；

圖2為本發明工藝流程圖；

圖3為本發明工藝設備結構圖；

其中：1.一級降膜吸收器，2.二級降膜吸收器，3.稀酸循環槽，4.稀酸循環泵，5.濃酸槽，6.成品槽。

具體實施方式

實施例1

氯化石蠟尾氣吸收工藝，氯化石蠟尾氣先進入一級降膜吸收器，一級降膜吸收器吸收70％氯化氫氣體后采出成品酸進入濃酸槽，濃酸槽中鹽酸的濃度為31％，剩余氯化氫氣體進入二級降膜吸收器，經二級降膜吸收器吸收后得稀酸，采出的稀酸進入稀酸循環槽，稀酸循環槽中的稀酸由稀酸循環泵送出，一部分進入二級降膜吸收器進行循環吸收，進入二級降膜吸收器進行循環吸收的稀酸濃度為12％(v/v)，一部分進入一級降膜吸收器進行吸收后進入濃酸槽。

稀酸循環槽中循環液用一次水補充。

氯化石蠟尾氣吸收的工藝設備，包括一級降膜吸收器1、二級降膜吸收器2、稀酸循環槽3，稀酸循環槽3通過稀酸循環泵4與一級降膜吸收器1相連。一級降膜吸收器1與濃酸槽5相連。

實施例2

氯化石蠟尾氣吸收工藝，氯化石蠟尾氣先進入一級降膜吸收器，一級降膜吸收器吸收60％氯化氫氣體后采出成品酸進入濃酸槽，濃酸槽中鹽酸的濃度為32％，剩余氯化氫氣體進入二級降膜吸收器，經二級降膜吸收器吸收后得稀酸，采出的稀酸進入稀酸循環槽，稀酸循環槽中的稀酸由稀酸循環泵送出，一部分進入二級降膜吸收器進行循環吸收，進入二級降膜吸收器進行循環吸收的稀酸濃度為10％(v/v)，一部分進入一級降膜吸收器進行吸收后進入濃酸槽。

稀酸循環槽中循環液用一次水補充。

尾氣吸收的工藝設備同實施例1。