[發(fā)明專利]光刻設(shè)備和定位設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200910253829.1 | 申請日: | 2009-12-08 |
| 公開(公告)號: | CN101819383A | 公開(公告)日: | 2010-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | N·J·吉利森;T·P·M·卡迪 | 申請(專利權(quán))人: | ASML荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 王新華 |
| 地址: | 荷蘭維*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光刻 設(shè)備 定位 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光刻設(shè)備。本發(fā)明還涉及定位設(shè)備。
背景技術(shù)
光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上,通常是襯底的目標部分上的機器。例如,可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下,可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如,硅晶片)上的目標部分(例如,包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常,圖案的轉(zhuǎn)移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行的。通常,單獨的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標部分的網(wǎng)絡(luò)。公知的光刻設(shè)備包括:所謂步進機,在所述步進機中,通過將全部圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分;以及所謂掃描器,在所述掃描器中,通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與該方向平行或反向平行的方向掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。也能夠以通過將圖案壓印(imprinting)到襯底的方式從圖案形成裝置將圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。
通常,光刻設(shè)備包括可移動的物體。這樣的物體可以相對于另一物體(例如框架(例如基礎(chǔ)框架或量測框架))移動。可移動物體的一個例子是例如襯底或圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu),其可以移動以在圖案轉(zhuǎn)移過程中相對于輻射束定位襯底和/或圖案形成裝置,其中,將圖案從圖案形成裝置轉(zhuǎn)移至襯底。尤其在掃描器中,兩個支撐結(jié)構(gòu)都是可移動的。
在一個物體相對另一物體可移動時,電纜和/或軟管可以設(shè)置在它們之間,以將電力、數(shù)據(jù)、流體等從一個物體轉(zhuǎn)送至另一物體,反之亦然。可移動物體可以包括致動器形式的熱源,其可以相對于另一物體或另一熱源定位可移動的物體。這些熱源可能影響可移動物體的溫度和/或溫度分布。在將可移動物體用于光刻設(shè)備的圖案轉(zhuǎn)移過程中時,優(yōu)選地控制溫度(可能的話使其處于千分之一開爾文(millikelvin)范圍內(nèi)),以便最小化成像問題和/或重疊誤差。在這種情形中,可以通過使預(yù)定溫度的流體通過可移動的物體,來控制可移動物體的溫度,其中流體通過軟管傳送至可移動物體和從可移動物體通過軟管傳送離開。
然而,在兩個相對移動的物體之間定位電纜和/或軟管可能限制了可移動物體的可獲得的位置精度,這是因為電纜和/或軟管引入了力擾動。在承載流體的軟管的情形中,這些力擾動可能是流動流體本身的慣性力的結(jié)果和/或流體和可移動物體的加速度或減速度之間的相互作用。結(jié)合降低可移動物體的質(zhì)量的趨勢和對精度和加速度(>15G)的增加的需求,這些擾動變得不可接受并可能導(dǎo)致光刻設(shè)備的成像問題和/或重疊誤差。
發(fā)明內(nèi)容
期望提供一種減少的成像問題和/或重疊誤差的光刻設(shè)備。還期望改善溫度受控制的可移動的物體的可獲得的位置精度。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例,提供了一種光刻設(shè)備,其包括:可移動的第一物體和包括熱交換體的熱交換器,該熱交換體包括具有電熱或磁熱性質(zhì)的材料,和被配置以通過與可移動的第一物體交換熱量來影響第一物體的溫度;和發(fā)生器,其被配置以將電磁場供給至熱交換體以適應(yīng)熱交換體的溫度,以便冷卻或加熱第一物體。
根據(jù)本發(fā)明的另一實施例,提供了定位設(shè)備,以相對于第二物體定位第一物體,所述定位設(shè)備包括熱交換器,該熱交換器包括熱交換體,該熱交換體包括具有電熱或磁熱性質(zhì)的材料,該熱交換體被配置以與第一物體和第二物體進行熱量交換;和發(fā)生器,其被配置以將電磁場供給至熱交換體以適應(yīng)熱交換體的溫度,以便冷卻或加熱第一物體,其中,熱交換體被配置以在第一位置與第一物體交換熱量,和在第二位置與第二物體交換熱量,所述熱交換器還包括定位系統(tǒng),該定位系統(tǒng)被配置以在第一和第二位置之間至少移動熱交換體的一部分。
附圖說明
下面僅通過示例的方式,參考示意性附圖對本發(fā)明的實施例進行描述,其中示意性附圖中相應(yīng)的參考標記表示相應(yīng)的部件,在附圖中:
圖1示出根據(jù)本發(fā)明的實施例的光刻設(shè)備;
圖2示出可以通過根據(jù)本發(fā)明的一個實施例的熱交換組件來控制溫度的物體的示意圖;
圖3示出根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的熱交換組件的示意圖;
圖4示出根據(jù)本發(fā)明的又一實施例的熱交換組件的示意圖;
圖5示出根據(jù)本發(fā)明的還一實施例的熱交換組件的示意圖;以及
圖6示出根據(jù)本發(fā)明的包括熱交換組件的定位設(shè)備的示意圖。
具體實施方式
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G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
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