[發明專利]一種光阻清洗液的制備工藝無效
| 申請號： | 200910247658.1 | 申請日： | 2009-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN102117021A | 公開（公告）日： | 2011-07-06 |
| 發明（設計）人： | 朱杰;胡建華 | 申請（專利權）人： | 安集微電子(上海)有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/42 | 分類號： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鴻律師事務所 31246 | 代理人： | 李佳銘 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區張江高*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清洗 制備 工藝 | ||
1.一種光阻清洗液的制備工藝，其特征在于包括如下步驟：將光阻清洗液的各成分按其工作機理、功能、理化性質或共存穩定性分組，平行地將每組的成分分別進行混合，得到各中間預混物，對中間預混物進行質量控制檢測，全部中間預混物檢測合格后，進行混合，制得光阻清洗液。
2.如權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：所述的質量控制檢測包括顆粒總數檢測、痕量金屬離子濃度檢測、pH檢測和主要濃度檢測中的一種或多種。
3.如權利要求1所述的制備工藝，其特征在于：所述的分組為分成2～4組。
4.如權利要求2所述的制備工藝，其特征在于：當將光阻清洗液液的各成分按工作機理、功能、理化性質或共存穩定性分成2組時，按如下方案進行：
中間預混物1：有機溶劑、無機溶劑和腐蝕劑；
中間預混物2：酸性螯合劑、堿性螯合劑、pH緩沖劑和緩蝕劑。
5.如權利要求4所述的制備工藝，其特征在于：對所述的中間預混物1進行顆粒總數檢測、痕量金屬離子濃度檢測和氟離子濃度檢測后使用；對所述的中間預混物2進行酸性螯合劑、堿性螯合劑、pH緩沖劑和緩蝕劑的濃度檢測，顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測。
6.如權利要求2所述的制備工藝，其特征在于：當將光阻清洗液液的各成分按工作機理、功能、理化性質或共存穩定性分成4組時，按如下方案進行：
中間預混物1：有機溶劑和無機溶劑；
中間預混物2：堿性螯合劑和pH緩沖劑；
中間預混物3：酸性螯合劑、緩蝕劑和pH緩沖劑；
中間預混物4：腐蝕劑。
7.如權利要求6所述的制備工藝，其特征在于：對所述的中間預混物1進行顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測后使用；對所述的中間預混物2進行堿性螯合劑和pH緩沖劑的濃度檢測，以及顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測；對所述的中間預混物3進行酸性螯合劑、緩蝕劑和pH緩沖劑的濃度檢測，pH檢測，顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測；對所述的中間預混物4進行濃度檢測、顆粒總數檢測和氟離子濃度檢測后使用。
8.如權利要求3所述的制備工藝，其特征在于：當將光阻清洗液液的各成分按工作機理、功能、理化性質或共存穩定性分成3組時，按如下方案進行：
中間預混物1：有機溶劑和無機溶劑；
中間預混物2：堿性螯合劑、酸性螯合劑、pH緩沖劑和緩蝕劑；
中間預混物3：腐蝕劑。
9.如權利要求8所述的制備工藝，其特征在于：對所述的中間預混物1進行顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測后使用；對所述的中間預混物2進行堿性螯合劑、酸性螯合劑、pH緩沖劑和緩蝕劑的濃度檢測，顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測；對所述的中間預混物3進行腐蝕劑濃度檢測、顆粒總數檢測和氟離子濃度檢測后使用。
10.如權利要求1～9中任一項所述的制備工藝，其特征在于：將全部中間預混物檢測合格后，進行混合，混合后再進行濃度檢測、pH檢測、顆粒總數檢測和痕量金屬離子濃度檢測。
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