[發(fā)明專利]光刻機的對準信號的周期測校方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910247635.0
• 申請日: 2009-12-30
• 公開（公告）號: CN102117026A
• 公開（公告）日: 2011-07-06
• 發(fā)明（設計）人: 李運鋒;王海江;宋海軍;韋學志
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產(chǎn)權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種光刻機對準信號的周期測校方法，包括如下步驟：

步驟1.對準操作與管理模塊下發(fā)掃描參數(shù)到信號采集與處理模塊和位置采集與運動控制模塊；

步驟2.位置采集與運動控制模塊控制運動臺載著對準標記勻速運動，信號采集與處理模塊采集各個通道的光強信號，同時，位置采集與運動控制模塊采集工件臺的位置信息，光強信號和位置信息在采集后均被傳輸?shù)綄什僮髋c管理模塊；

步驟3.對準操作與管理模塊根據(jù)各個通道的光強信號和位置信息，組成各通道的對準信號，然后對各通道的對準信號的擬合周期依次進行測校，獲得每個通道的對準信號的最佳擬合周期；

步驟4.將獲得的每一通道對準信號的最佳擬合周期作為常數(shù)存儲在機器中，供對準時調(diào)用；

其特征在于，步驟3中包括如下步驟：

步驟3.1對于第i通道對準信號，根據(jù)對準信號周期的設計值P_d，給出擬合周期的測試范圍為[P_d-P_shift，P_d+P_shift]；，

步驟3.2依次設定擬合周期為P_d-P_shift+ΔP、P_d-P_shift+2ΔP、…、P_d+P_shift，求出每一擬合周期的MCC值，并建立擬合周期與MCC之間的關系曲線；

步驟3.3平滑處理擬合周期與MCC之間的關系曲線，找到MCC最大值處對應的擬合周期，該擬合周期即為該通道對準信號的最佳擬合周期；

步驟3.4重復步驟3.1～3.4，求出第i+1通道和其它通道對準信號的最佳擬合周期。

2.根據(jù)權利要求1所述的測校方法，其中多重相關系數(shù)

MCC=1-Σi=1N(I(xi)-f(xi))2Σi=1N(I(xi)-I‾)2]]>

式中，I(x_i)為位置x_i處的的光強測量值，i表示第i個光強測量點(采樣點)，N為總的測量點數(shù)，I為全部光強測量點的平均光強，f(x_i)表示擬合后，利用獲得的模型參數(shù)，計算得到的位置x_i處的光強值。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的測校方法，其中，采用多項式擬合對擬合周期與MCC之間的關系曲線進行平滑處理。