[發明專利]多用途太陽光譜選擇性吸收涂層及其制備方法

無效

• 申請號: 200910244289.0
• 申請日: 2009-12-31
• 公開（公告）號: CN101793437A
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發明（設計）人: 郭保安
• 申請（專利權）人: 沈陽百樂真空技術有限公司
• 主分類號: F24J2/48
• 分類號: F24J2/48;C23C14/35;C23C14/54;B32B9/04;B32B15/04
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 羅文群

1.一種多用途太陽光譜選擇性吸收涂層，其特征在于該吸收涂層自基體至表面依次 為：

第一層紅外高反射層，材料為銅或鋁，厚度為80-150nm，紅外高反射層與吸收涂層 的基體相連；

第二層吸收層，第二層吸收層置于第一層紅外高反射層和第三層減反射層之間，由第 一層紅外高反射層至第三層減反射層依次包括第一吸收層和第二吸收層，其中第一吸收層 的材料是鈦氮氧，厚度為30～150nm，第二吸收層的材料為鈦鋁氮氧，厚度為30-150nm；

第三層減反射層，第三層減反射層與第二層吸收層相連，由第二層吸收層起依次包括 第一獨立減反射層、第二獨立減反射層和第三獨立減反射層，第一獨立減反射層的材料為 氮化鋁AlN，厚度為5-50nm，第二獨立減反射層的材料為鋁氮氧AlNO，厚度為5-50nm， 第三獨立減反射層的材料為氧化鋁Al₂O₃，厚度為5-50nm，三個獨立減反射層的總厚度為 15-150nm。

2.一種多用途太陽光譜選擇性吸收涂層的制備方法，其特征在于，當以玻璃為基體， 并用金屬銅Cu作為紅外高反射層時，該方法包括以下步驟：

(2-1)將清洗干凈的玻璃基體安裝在鍍膜機中，使鍍膜室的真空壓強為5×10^-3Pa～ 8×10^-3Pa；

(2-2)向鍍膜室中通入氬氣，至鍍膜室的壓強為0.1Pa～1.0Pa，接通Al靶或Ti 靶，沉積Al或Ti膜，使厚度達到5～10nm；或者向鍍膜室通入反應氣體N₂或O₂，沉積Al 或Ti的氧化物或氮化物，使厚度為5～10nm；

(2-3)切斷Al靶或Ti靶電源，停止通入N₂或O₂，啟動Cu靶電源，沉積Cu膜， 使厚度達到80-150nm；

(2-4)切斷Cu靶電源，接通Ti靶電源，向鍍膜室分別通入反應氣體O₂和N₂，使O₂和N₂的流量比為：O₂∶N₂＝1∶1～60，沉積TiNO膜，使厚度為30～150nm；

(2-5)啟動Al靶電源，使O₂和N₂流量比為：O₂∶N₂＝1∶1～60，沉積TiAlNO， 厚度為30～150nm；

(2-6)切斷Ti靶電源，并停止通入O₂，沉積純AlN膜，厚度5～50nm；

(2-7)通入O₂，使O₂和N₂的流量比為：O₂∶N₂＝1∶0.01～50，沉積AlNO膜，使厚 度為5～50nm；

(2-8)關掉N₂，沉積Al₂O₃膜，使厚度為5～50nm。