[發(fā)明專利]一種可用于光束整形的金屬槽縫結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910243535.0 | 申請(qǐng)日： | 2009-12-25 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN101726869A | 公開（公告）日： | 2010-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 羅先剛;趙澤宇;崔建華;馮沁;李雄 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào)： | G02F1/00 | 分類號(hào)： | G02F1/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251 | 代理人： | 成金玉;盧紀(jì) |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 光束 整形 金屬 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種可用于光束整形的金屬槽縫結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述金屬槽縫結(jié)構(gòu)的制作方法如 下：
(1)選擇硅基片，并將硅基片表面拋光；然后在硅基片表面濺射沉積一層厚度在所需半 波長量級(jí)的金屬膜；
(2)采用聚焦離子束光刻技術(shù)，在金屬膜的一端開始刻蝕溝槽，一個(gè)溝槽刻蝕完成后， 向另一端周期性地移動(dòng)聚焦離子束的聚焦位置，重復(fù)刻蝕多個(gè)溝槽；所述步驟(2)中的溝槽 數(shù)量為20個(gè)；
(3)一邊溝槽達(dá)到上述數(shù)量后，再將聚焦離子束的聚焦位置沿同一方向移動(dòng)一個(gè)周期； 將金屬層刻透，形成一條縫隙；所述縫隙的寬度與步驟(2)中的溝槽的寬度相同；
(4)再沿同一方向周期性地移動(dòng)聚焦離子束的聚焦位置，重復(fù)步驟(2)，刻蝕與步驟 (2)中同樣數(shù)量的溝槽，一種可用于光束整形的金屬槽縫結(jié)構(gòu)制作完成；所述步驟(2)中 的移動(dòng)周期和步驟(4)中的移動(dòng)周期相同，均為0.53倍波長-0.85倍波長；
所述步驟(2)中的溝槽寬度為0.11倍波長；
所述步驟(2)中的溝槽的深度為0.17倍波長-0.19倍波長；
所述步驟(4)中溝槽的寬度為0.11倍波長；
所述步驟(4)中溝槽的深度為0.17倍波長-0.19倍波長；
所用的光源為1550nm波長的紅外光源。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可用于光束整形的金屬槽縫結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述步驟 (3)中移動(dòng)周期為0.53倍波長-0.85倍波長。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種可用于光束整形的金屬槽縫結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述步驟 (1)中的金屬膜為鋁膜或銅膜。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
