[發(fā)明專利]一種PETEOS沉積設(shè)備清洗方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910243500.7
• 申請(qǐng)日: 2009-12-24
• 公開（公告）號(hào): CN102110583A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔曉娟;周華強(qiáng);徐鋒;彭亮;熊炳輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北大方正集團(tuán)有限公司;深圳方正微電子有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 郭潤(rùn)湘

1.一種PETEOS沉積設(shè)備清洗方法，其特征在于，包括：

向PETEOS沉積設(shè)備的各反應(yīng)腔中通入C₂F₆和O₂作為清洗氣體，施加射頻交流電，對(duì)各反應(yīng)腔依次進(jìn)行近距離清洗操作和遠(yuǎn)距離清洗操作，通入的C₂F₆氣體流量為380～420scc；O₂的氣體流量為475～525scc；

清洗完成后抽空各反應(yīng)腔內(nèi)的氣體。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在向PETEOS沉積設(shè)備的各反應(yīng)腔中通入C₂F₆和O₂進(jìn)行近距離清洗操作之前，還包括：

向PETEOS沉積設(shè)備的各反應(yīng)腔中通入C₂F₆和O₂直至穩(wěn)定的步驟；該步驟中，通入的C₂F₆氣體流量為380～420scc；O₂的氣體流量為475～525scc，氣體通入的時(shí)間為5s。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在向PETEOS沉積設(shè)備的各反應(yīng)腔中通入C₂F₆和O₂進(jìn)行遠(yuǎn)距離清洗操作之前，還包括：

向PETEOS沉積設(shè)備的所有腔體中通入C₂F₆和O₂直至穩(wěn)定的步驟；該步驟中，C2F6的氣體流量為380～420scc；O₂的氣體流量為475～525scc；氣體通入的時(shí)間為5s。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，對(duì)各反應(yīng)腔進(jìn)行近距離清洗的時(shí)間為25±5s。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，對(duì)各反應(yīng)腔進(jìn)行近距離清洗時(shí)施加的射頻交流電功率為600W。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，對(duì)各反應(yīng)腔進(jìn)行遠(yuǎn)距離清洗的時(shí)間為35±10s。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，對(duì)各反應(yīng)腔進(jìn)行遠(yuǎn)距離清洗時(shí)施加的射頻交流電功率為700W。

8.如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，還包括：向各腔體中通入O₂和TEOS氣體，施加射頻交流電，在各反應(yīng)腔的備件表面上沉積保護(hù)膜；

抽空各反應(yīng)腔內(nèi)的氣體。