[發明專利]用于等離子體加工設備的電極板和清除工藝沉積物的方法有效
| 申請號： | 200910242684.5 | 申請日： | 2009-12-14 |
| 公開（公告）號： | CN102098863A | 公開（公告）日： | 2011-06-15 |
| 發明（設計）人： | 白志民 | 申請（專利權）人： | 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司 |
| 主分類號： | H05H1/46 | 分類號： | H05H1/46;H01L21/00;C23C16/513 |
| 代理公司： | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100026 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 等離子體 加工 設備 極板 清除 工藝 沉積物 方法 | ||
1.一種用于等離子體加工設備的電極板，由導電材料制成，其特征在于，所述電極板的一側板面為凸起和凹槽形成的曲面。
2.根據權利要求1所述的電極板，其特征在于，
所述曲面為凸起和凹槽形成的波浪狀曲面；
所述凸起包括多個條狀凸起，所述條狀凸起貫穿所述曲面的縱向板面，各所述條狀凸起之間形成所述凹槽。
3.根據權利要求2所述的電極板，其特征在于，所述條狀凸起的高度為0.3～1mm。
4.根據權利要求3所述的電極板，其特征在于，所述條狀凸起的高度為0.5mm。
5.根據權利要求2所述的電極板，其特征在于，相鄰所述條狀凸起之間的間距為1～2mm。
6.根據權利要求5所述的電極板，其特征在于，相鄰所述條狀凸起之間的間距為1.5mm。
7.根據權利要求1所述的電極板，其特征在于，所述凸起包括多個包狀凸起，各所述包狀凸起之間形成所述凹槽。
8.根據權利要求7所述的電極板，其特征在于，其特征在于，所述包狀凸起的高度為0.3～1mm。
9.根據權利要求8所述的電極板，其特征在于，所述包狀凸起的高度為0.5mm。
10.根據權利要求7所述的電極板，其特征在于，相鄰所述包狀凸起之間的間距為1～2mm。
11.根據權利要求10所述的電極板，其特征在于，相鄰所述包狀凸起之間的間距為1.5mm。
12.一種用于等離子體加工設備的清除工藝沉積物的方法，其特征在于，
包括：采用高頻等離子體轟擊一側板面為凸起和凹槽形成的曲面的上電極。
13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述高頻的頻率為10～100MHz。
14.根據權利要求13所述的方法，其特征在于，所述高頻的頻率為13.56MHz。
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