[發明專利]真空鍍膜設備

無效

• 申請號: 200910241702.8
• 申請日: 2009-12-01
• 公開（公告）號: CN102080209A
• 公開（公告）日: 2011-06-01
• 發明（設計）人: 姚立強
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C16/44
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 魏曉波;逯長明

1.一種真空鍍膜設備，包括真空腔體(22)和用于控制真空腔體(22)內部壓力的壓力調節部件(24)，所述真空腔體(22)和所述壓力調節部件(24)之間連接有沉積裝置(27)，其特征在于，所述沉積裝置(27)包括沉積腔體(271)和位于所述沉積腔體(271)內的阻隔部件，所述阻隔部件與所述沉積腔體(271)的側壁形成彎曲的氣流通道。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述阻隔部件為隔板(272)，且所述隔板(272)上相對的兩端中的第一端安裝于所述沉積腔體(271)的側壁，第二端距離所述沉積腔體(271)的側壁適當距離。

3.根據權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述隔板包括第一隔板(2721)和第二隔板(2722)，所述側壁包括相對設置的第一側壁(2711)和第二側壁(2712)；所述第一隔板(2721)的第一端安裝于所述第一側壁(2711)，其第二端距離所述第二側壁(2712)適當距離；所述第二隔板(2721)的第一端安裝于所述第二側壁(2712)，其第二端距離所述第一側壁(2711)適當距離。

4.根據權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述第一隔板(2721)的數目和所述第二隔板(2722)的數目均為多個，且二者沿所述氣體的流通方向間隔設置。

5.根據權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述第一側壁(2711)和所述第二側壁(2712)分體設置。

6.根據權利要求2所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述隔板(272)具有平面結構或者弧面結構。

7.根據權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(27)還包括收集腔(276)，所述收集腔(276)安裝于所述沉積腔體(271)的下方，且所述收集腔(276)的頂壁與所述沉積腔體(271)的底壁相通。

8.根據權利要求7所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述收集腔(276)的側壁設置有觀察窗(275)。

9.根據權利要求8所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述收集腔(276)的側壁設置有排出口。

10.根據權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(27)還包括溫度調節部件(277)，用于改變所述沉積腔體(271)的溫度。

11.根據權利要求10所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述溫度調節部件(277)為水管，所述水管繞于所述沉積腔體(271)的外側。

12.根據權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述沉積裝置(27)還包括振動部件，用于使所述沉積腔體(271)振動。

13.根據權利要求12所述的真空鍍膜設備，其特征在于，所述振動部件為由動力部件驅動的凸輪，所述凸輪安裝于所述沉積腔體(271)的下方。

14.根據權利要求1至6任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于，還包括旁路管道和旁路截止閥(25)，所述旁路管道在所述旁路截至閥(25)的作用下可選擇地連通所述真空腔體(22)和所述壓力調節部件(24)。