[發明專利]X、Ku波段透射Ka波段反射四頻點頻率選擇表面設計方法無效
| 申請號: | 200910238426.X | 申請日: | 2009-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN101702469A | 公開(公告)日: | 2010-05-05 |
| 發明(設計)人: | 白明;姚夏元;梁斌;苗俊剛 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | H01Q15/00 | 分類號: | H01Q15/00;H01Q19/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | ku 波段 透射 ka 反射 四頻點 頻率 選擇 表面 設計 方法 | ||
1.一種X、Ku波段透射Ka波段反射四頻點頻率選擇表面設計方法,其特征在于,頻率選擇表面上下兩面均表貼同樣大小的圓環,為了表貼金屬環,頻率選擇表面使用了將金屬環先粘貼在介質層上再粘接在支撐層上的方式。
2.根據權利要求1所述的X、Ku波段透射Ka波段反射四頻點頻率選擇表面設計方法,其特征為選用的諧振單元為大小一致的金屬環,采用非關心頻段諧振方法,提高頻率選擇表面的性能,減少了由于諧振造成了相位突變和表面熱損耗。
3.根據權利要求1所述的X、Ku波段透射Ka波段反射四頻點頻率選擇表面設計方法,其特征為選用的介質厚度滿足諧振頻率波長的0.45倍至0.55倍之間。
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