[發明專利]一種制備二氧化鈦納米層片的方法無效
| 申請號: | 200910236279.2 | 申請日: | 2009-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN101698508A | 公開(公告)日: | 2010-04-28 |
| 發明(設計)人: | 王金淑;李洪義;鄒晨;李輝 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | C01G23/08 | 分類號: | C01G23/08;B82B3/00 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制備 氧化 納米 方法 | ||
1.一種制備二氧化鈦納米層片的方法,其特征在于,包括以下步驟:
室溫下,將層狀K2Ti4O9粉末在高能球磨機上以500-5000rpm的球磨速 度干磨1-10h后,懸浮于1M的鹽酸溶液中攪拌1-10h,層狀K2Ti4O9粉末與 鹽酸溶液的質量比為1∶50-500;而后加入0.5M的氨水調整pH=4后,離心 分離、蒸餾水洗滌、室溫至100℃真空干燥3-24h,最后于300-1000℃煅燒 1-10h,得到片層厚度為0.1-10nm的二氧化鈦納米層片。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,室溫下,將層狀K2Ti4O9粉 末在高能球磨機上以700-1500rpm的球磨速度干磨2-5h后,懸浮于1M的 鹽酸溶液中攪拌2-3h,層狀K2Ti4O9粉末與鹽酸溶液的質量比為1∶50-500; 而后加入0.5M的氨水調整pH=4后,離心分離、蒸餾水洗滌、室溫至100 ℃真空干燥3-24h,最后于300-1000℃煅燒1-10h,得到厚度為0.1-10nm 的二氧化鈦納米層片。
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