[發明專利]液晶顯示器及陣列基板的制造方法

有效

• 申請號: 200910235616.6
• 申請日: 2009-09-30
• 公開（公告）號: CN102033345A
• 公開（公告）日: 2011-04-27
• 發明（設計）人: 王丹;林炳仟;邱海軍
• 申請（專利權）人: 北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G02F1/133
• 分類號: G02F1/133;G02F1/1362;G03F7/00;H01L27/02;H01L21/82
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 劉芳

1.一種液晶顯示器，其特征在于，包括對盒設置的陣列基板和彩膜基板，所述彩膜基板包括設置在基板上的黑矩陣、紅色像素、綠色像素和藍色像素，所述紅色像素、所述綠色像素和所述藍色像素對應的所述液晶顯示器的盒厚不同。

2.根據權利要求1所述的液晶顯示器，其特征在于，所述紅色像素、所述綠色像素和所述藍色像素對應的所述陣列基板中柵絕緣層的厚度不同。

3.根據權利要求1所述的液晶顯示器，其特征在于，所述紅色像素、所述綠色像素和所述藍色像素對應的所述陣列基板中鈍化層的厚度不同。

4.根據權利要求2所述的液晶顯示器，其特征在于，所述紅色像素和所述綠色像素對應的所述陣列基板中柵絕緣層的厚度差值范圍為0-1微米，所述綠色像素和所述藍色像素對應的所述陣列基板中柵絕緣層的厚度差值范圍為0-1微米。

5.根據權利要求3所述的液晶顯示器，其特征在于，所述紅色像素和所述綠色像素對應的所述陣列基板中鈍化層的厚度差值范圍為0-1微米，所述綠色像素和所述藍色像素對應的所述陣列基板中鈍化層的厚度差值范圍為0-1微米。

6.一種陣列基板的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上通過構圖工藝形成包括柵線和柵電極的圖形；

在完成上述步驟的所述基板上沉積柵絕緣薄膜，在所述柵絕緣薄膜上涂覆一層光刻膠，形成柵絕緣層；

采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域和第二半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述柵絕緣層進行刻蝕，使得所述柵絕緣層在彩膜基板中的紅色像素、綠色像素和藍色像素所分別對應的厚度不同；

在完成上述步驟的所述基板上通過構圖工藝形成包括數據線、漏電極、源電極和像素電極的圖形。

7.根據權利要求6所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，所述采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域和第二半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述柵絕緣層進行刻蝕，使得所述柵絕緣層在彩膜基板中的紅色像素、綠色像素和藍色像素所分別對應的厚度不同包括：

采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域和第二半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述柵絕緣層進行曝光，使所述柵絕緣層形成光刻膠完全去除區域、第一光刻膠半保留區域和第二光刻膠半保留區域，所述光刻膠完全去除區域對應于彩膜基板中紅色像素所對應的區域，所述第一光刻膠半保留區域對應于所述彩膜基板中綠色像素所對應的區域，所述第二光刻膠半保留區域對應于所述彩膜基板中藍色像素所對應的區域；

通過多步刻蝕工藝對所述柵絕緣層進行處理，使得所述第二光刻膠半保留區域的柵絕緣層的厚度大于所述第一光刻膠半保留區域的柵絕緣層的厚度，所述第一光刻膠半保留區域的柵絕緣層的厚度大于所述光刻膠完全去除區域的柵絕緣層的厚度。

8.根據權利要求6所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板中所述第一半色調或灰階色調區域的透光率大于所述第二半色調或灰階色調區域的透光率。

9.根據權利要求6所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，還包括：

在形成柵絕緣層的所述基板上沉積鈍化層薄膜，在所述鈍化層薄膜上涂覆一層光刻膠，形成鈍化層；

采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述鈍化層進行刻蝕，使得所述陣列基板在彩膜基板中紅色像素、綠色像素和藍色像素所分別對應的厚度不同。

10.根據權利要求9所述的陣列基板的制造方法，其特征在于，所述采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述鈍化層進行刻蝕，使得所述陣列基板在彩膜基板中紅色像素、綠色像素和藍色像素所分別對應的厚度不同包括：

采用包括全色調區域、第一半色調或灰階色調區域的掩膜板對所述鈍化層進行曝光，使所述鈍化層形成光刻膠完全去除區域和第一光刻膠半保留區域，所述光刻膠完全去除區域對應于彩膜基板中紅色像素和綠色像素所對應的區域，所述第一光刻膠半保留區域對應于所述彩膜基板中藍色像素所對應的區域；

通過多步刻蝕工藝對所述鈍化層進行處理。