[發明專利]物理氣相沉積(PVD)及冷陽極氧化金屬著色無效
| 申請號: | 200910224612.8 | 申請日: | 2009-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN102071448A | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發明(設計)人: | 肇睿;瑞德·尼德爾科恩;鄭侃;汪軍;劉憲秋 | 申請(專利權)人: | 萊爾德電子材料(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C25D11/02 | 分類號: | C25D11/02;C25D11/26;C23C14/16;B32B15/01 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香蘭;龐東成 |
| 地址: | 518103 廣東省深圳市寶*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 物理 沉積 pvd 陽極 氧化 金屬 著色 | ||
1.一種方法,所述方法包括:以下述電流和溫度陽極氧化鈮被覆金屬基板,使其硬度大于或等于約350HV(維氏金剛石棱錐硬度數),所述電流和溫度分別處于有助于提高所述鈮被覆金屬基板的硬度的電流范圍和溫度范圍內。
2.一種方法,所述方法包括:在約0攝氏度~約5攝氏度的溫度范圍內的溫度下,使用在不超過約1.5安培的電流范圍內的電流來陽極氧化鈮被覆金屬基板。
3.如權利要求2所述的方法,其中,所述陽極氧化包括陽極氧化所述鈮被覆金屬基板,使其硬度大于或等于約350HV(維氏金剛石棱錐硬度數)。
4.如權利要求1所述的方法,其中,所述溫度范圍為約0攝氏度~約5攝氏度。
5.如權利要求1所述的方法,其中,所述電流范圍不超過約1.5安培。
6.如權利要求1或2所述的方法,其中,預先確定所述溫度范圍和/或所述電流范圍中的至少一個,以實現較慢的沉積、較高的涂層密度、避免電流穿透鈮涂層和/或更均勻的著色。
7.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述陽極氧化包括使用包含磷酸(H3PO4)、硝酸(HNO3)、硫酸(H2SO4)、水(H2O)和三乙醇胺(TEA)的陽極氧化溶液。
8.如權利要求7所述的方法,其中,所述陽極氧化溶液包含1份磷酸(H3PO4)、2份硝酸(HNO3)、4份硫酸(H2SO4)、9份水(H2O)和1份三乙醇胺(TEA)。
9.如權利要求1或2所述的方法,所述方法還包括使用鈮被覆至少一部分金屬基板,由此提供所述鈮被覆金屬基板。
10.如權利要求1或2所述的方法,所述方法還包括使用鈮完全被覆至少金屬基板的上側和下側,由此提供所述鈮被覆金屬基板。
11.如權利要求1或2所述的方法,所述方法還包括在至少一部分金屬基板上沉積鈮,由此提供所述鈮被覆金屬基板。
12.如權利要求11所述的方法,其中,所述沉積鈮包括至少一次鈮的物理氣相沉積。
13.如權利要求11所述的方法,其中,所述沉積鈮包括在至少所述金屬基板的上側和下側上沉積鈮。
14.如權利要求11所述的方法,其中,所述沉積鈮包括磁控濺射、電弧蒸發、蒸發和/或鐵濺射。
15.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述方法包括:
鈮的第一次物理氣相沉積;
在所述鈮的第一次物理氣相沉積之后的超聲洗滌;
在所述超聲洗滌之后的鈮的第二次物理氣相沉積。
16.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述鈮被覆金屬基板包括厚度在約0.1微米~約3微米范圍內的鈮涂層。
17.如權利要求1或2所述的方法,所述方法還包括:
在陽極氧化之前使用樹脂被覆至少一部分所述鈮被覆金屬基板;和/或
在陽極氧化之后使用樹脂被覆至少一部分經陽極氧化的所述鈮被覆金屬基板。
18.如權利要求17所述的方法,其中,所述樹脂涂層提高了所述鈮被覆金屬基板的耐用性。
19.如權利要求17所述的方法,其中,所述樹脂包括聚氨酯樹脂和/或紫外線固化樹脂。
20.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述陽極氧化包括使用串聯的10歐姆~500歐姆的電阻控制電流。
21.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述陽極氧化包括使用具有隨時間而變的電阻的電阻器或具有恒定電阻的電阻器控制電流。
22.如權利要求1或2所述的方法,其中,所述陽極氧化包括在至少所述陽極氧化的早期階段中抑制起始電流。
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