[發明專利]一種核殼結構填料/聚合物基復合材料及其制備方法有效
| 申請號: | 200910218645.1 | 申請日: | 2009-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN101712784A | 公開(公告)日: | 2010-05-26 |
| 發明(設計)人: | 向鋒;汪宏;李可鋮;劉維紅;喻科;周永存 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | C08L27/16 | 分類號: | C08L27/16;C08L23/12;C08L23/06;C08L33/12;C08L63/00;C08K9/10;C08K3/24;C08K3/22;C09C1/36;C09C3/04;C09C3/06;C09C3/08 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 汪人和 |
| 地址: | 710049*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 結構 填料 聚合物 復合材料 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于電子復合材料制備領域,特別是涉及一種金屬包覆 陶瓷核殼結構粉末作為填料的核殼結構填料/聚合物基復合材料及其 制備方法。
背景技術
具有高介電常數、低介電損耗、易加工性的聚合物基復合電介 質材料在嵌入式封裝技術,以及電能存儲領域都有廣泛應用前景。嵌 入式封裝技術能夠將分立元件嵌入印刷電路內部,是實現電子系統小 型化、輕薄化的關鍵。而嵌入式封裝所采用的嵌入式電容器,所采用 的電容材料必須同時具備較高的介電常數同時與印刷線路板所采用 的有機材料具有良好的相容性。普通陶瓷電能存儲電容,雖電容值較 大,但加工溫度過高。而高介電性能聚合物基復合材料具有較好的介 電性能、較高的電壓擊穿場強、加工溫度低,易成型等優點,故其在 這兩個領域有很大的應用價值。
近年來,針對提高聚合物基體介電常數的研究很多。傳統的陶 瓷/聚合物復合材料介電常數隨陶瓷含量增大而增大,但其陶瓷填料 對于復合材料介電常數的提高并不是很有效,黨智敏等人運用超高介 電常數的陶瓷CCTO與聚酰亞胺復合,其在CCTO體積分數為40% 時,其介電常數依然低于50。黨智敏還采取了在聚合物基體中添加 導電填料、陶瓷與聚合物基體組成三相復合材料,其利用導電顆粒在 絕緣基體內的滲流效應顯著地提高了復合材料的介電常數,但在導電 填料接近滲流閾值附近復合材料介電損耗急劇增長。近來,喬治亞理 工學院的C.P.Wang等人運用表面有鈍化層的Al粉,與環氧樹脂組成 復合材料,鋁表面的鈍化層有效阻擋了導電填料間的電子遷移,極大 降低了逾滲點附近介電損耗,但是由于阻擋層的存在也使得復合材料 的介電常數不能被有效提高,其在100Hz測試頻率下,介電常數的 最大值僅為110。
經文獻檢索,檢索到的一些與本發明相關的文獻,主要是以在 導體填料表面進行處理添加絕緣層從而減低介電損耗的報道,以下是 申請人檢索到的與本發明相關的參考文獻:
1.Z.M.Dang,Y.H.Lin,and?C.W.Nan,Adv.Mater.(Weinheim,Ger.) 15,1625(2003).
2.J.W.Xu,C.P.Wong,Appl.Phys.Lett.87,082907(2005).
3.Z.M.Dang,T.Zhou,S.H.Yao,J.K.Yuan,J.W.Zha,H.T.Song,J.Y. Li,Q.Chen,W.T.Yang,and?J.B.Bai,Adv.Mater.(Weinheim,Ger) 21,2077(2009)
4.Y.J.Li,M.Xu,and?J.Q?Feng,Z.M.Dang,Appl.Phys.Lett.89, 072902(2006).
5.L.Wang?and?Z.M.Dang,Appl.Phys.Lett.87,042903(2005).
6.J.Xu,C.P.Wong,Composites:Part?A,13,38(2007).
7.Y.Rao,S.OGITANI,P.KOHL,C.P.Wong,J.Appl.Polym.Sci.83, 1084(2002)
8.S.H?Yao,Z.M.Dang,M.J.Jiang,and?J.B.Bai?Appl.Phys.Lett. 93,182905(2008).
發明內容
本發明的目的是提供一種核殼結構填料/聚合物基復合材料及其 制備方法,該核殼結構填料/聚合物基復合材料具有較好的介電性能。
為了解決上述技術問題,本發明核殼結構填料/聚合物基復合材 料采用如下技術方案:
一種核殼結構填料/聚合物復合材料,包括:金屬包覆陶瓷顆粒 而形成的核殼結構填料及聚合物,所述聚合物完全包覆所述核殼結構 填料。
所述陶瓷顆粒為CCTO、BT、BST、SrTiO3、TiO2中的一種。
所述金屬為銀、鎳、鈷、銅、鋁中的一種。
所述聚合物為PVDF、P(VDF-TrFE)、P(VDF-TrFE-CFE)、PP、 PE、PMMA、Epoxy中的一種。
為了解決上述技術問題,本發明核殼結構填料/聚合物基復合材 料的制備方法采用如下技術方案:
一種制備核殼結構填料/聚合物基復合材料的方法,其具體步驟 為:
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安交通大學,未經西安交通大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910218645.1/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





