[發(fā)明專利]凹面全息光柵制作中光柵基底的雙光束定位方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910217813.5
• 申請(qǐng)日: 2009-11-05
• 公開（公告）號(hào): CN101726778B
• 公開（公告）日: 2011-04-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 孔鵬;李文昊;巴音賀希格;齊向東;唐玉國(guó)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18
• 代理公司: 長(zhǎng)春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210
• 代理人: 劉樹清

1.凹面全息光柵制作中光柵基底的雙光束定位方法，其特征在于：步驟一，配備一套凹面全息光柵曝光裝置，包括記錄激光器(1)、第一平面反射鏡(2)、分光鏡(3)、第二平面反射鏡(4)、第三平面反射鏡(5)、第一空間濾波器(6)、第二空間濾波器(7)、光柵基底(9)；在記錄激光器(1)的激光束傳播方向的光軸上置有第一平面反射鏡(2)，第一平面反射鏡(2)與光軸成45°角安裝；在第一平面反射鏡(2)的反射光的光路上置有分光鏡(3)，在分光鏡(3)的反射光的光路上置有第二平面反射鏡(4)，在分光鏡(3)的透射光的光路上置有第三平面反射鏡(5)，在第二平面反射鏡(4)的反射光的光路上置有第一空間濾波器(6)，在第三平面反射鏡(5)的反射光的光路上置有第二空間濾波器(7)，從第一空間濾波器(6)和第二空間濾波器(7)出射的球面光波在空間交匯區(qū)域形成干涉場(chǎng)(8)，兩束球面光波的波源點(diǎn)分別位于第一空間濾波器(6)和第二空間濾波器(7)的針孔處，在干涉場(chǎng)(8)內(nèi)放置被制作的凹面全息光柵的光柵基底(9)，光柵基底(9)的中心點(diǎn)O與兩束記錄球面光波的波源點(diǎn)之間的距離以及兩束記錄球面光波中心主光線與光柵基底(9)的中心法線的夾角γ、δ都按照設(shè)計(jì)好的制作結(jié)構(gòu)參數(shù)調(diào)整好，光柵基底(9)的位置就是全息光柵的曝光位置；步驟二，在步驟一所配備的凹面全息光柵曝光裝置中加入兩個(gè)定位用的監(jiān)測(cè)激光器和兩個(gè)分劃板，即第一監(jiān)測(cè)激光器(10)和第二監(jiān)測(cè)激光器(11)、第一分劃板(12)和第二分劃板(13)，形成記錄光柵基底位置的裝置，在?第一監(jiān)測(cè)激光器(10)的出光孔處置有第一分劃板(12)，在第二監(jiān)測(cè)激光器(11)的出光孔處置有第二分劃板(13)，第一監(jiān)測(cè)激光器(10)的出射光束通過第一分劃板(12)的中心點(diǎn)入射在光柵基底(9)的中心，反射后的反射光通過第二分劃板(13)的中心，第二監(jiān)測(cè)激光器(11)的出射光束通過第二分劃板(13)的中心點(diǎn)入射在光柵基底(9)的中心，反射后的反射光通過第一分劃板(12)的中心；步驟三，步驟二已將光柵基底(9)的空間位置記錄在第一分劃板(12)和第二分劃板(13)上，取下光柵基底(9)，將涂有光刻膠的待制作光柵基底放置到卡具上，調(diào)整卡具的前后、旋轉(zhuǎn)及俯仰使第一監(jiān)測(cè)激光器(10)和第二監(jiān)測(cè)激光器(11)發(fā)射的激光束經(jīng)經(jīng)待制作光柵基底的反射光束分別打在第二分劃板(13)和第一分劃板(12)的中心，至此，待制作光柵基底的位置就恢復(fù)到步驟二中光柵基底(9)的位置，待制作的光柵基底雙光束定位完畢。?