[發明專利]沉浸式稀土電解槽無效
| 申請號: | 200910215586.2 | 申請日: | 2009-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN101845641A | 公開(公告)日: | 2010-09-29 |
| 發明(設計)人: | 伍永福;劉中興;李姝婷 | 申請(專利權)人: | 內蒙古科技大學 |
| 主分類號: | C25C3/34 | 分類號: | C25C3/34 |
| 代理公司: | 包頭市專利事務所 15101 | 代理人: | 莊英菊 |
| 地址: | 014010 內蒙*** | 國省代碼: | 內蒙古;15 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 沉浸 稀土 電解槽 | ||
1.沉浸式稀土電解槽,包括陰極(1)、陽極(2)、石墨坩堝(3)、絕緣層(4)、坩堝收集器(6)、碳粉(7)、耐火材料層(8)、保溫層(9)、鐵皮(10),其特征在于:石墨坩堝(3)中部位置設有陽極支座(5),陽極(2)懸掛在陽極支座(5)上并沉浸在電解質熔液里。
2.根據權利要求1所述的沉浸式稀土電解槽,其特征在于:陽極(2)外環壁面與軸線呈5~8°傾斜角。
3.根據權利要求1或2所述的沉浸式稀土電解槽,其特征在于:陽極支座(5)在內環壁面與軸線呈5~8°傾斜角,傾斜角的方向與陽極(2)的傾斜角方向相反。
4.根據權利要求1所述的沉浸式稀土電解槽,其特征在于:陽極支座(5)上設置有一個陽極或并排設置至少兩個陽極。
5.根據權利要求1所述的沉浸式稀土電解槽,其特征在于:石墨坩堝槽(3)采用整體成型或分塊砌筑,四周為圓角、圓形或橢圓結構。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于內蒙古科技大學,未經內蒙古科技大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200910215586.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種沉井糾偏施工方法
- 下一篇:集成電路芯片封裝體





