[發明專利]一種二維光譜測量裝置

無效

• 申請號: 200910215556.1
• 申請日: 2009-12-23
• 公開（公告）號: CN101813520A
• 公開（公告）日: 2010-08-25
• 發明（設計）人: 潘建根
• 申請（專利權）人: 杭州遠方光電信息有限公司
• 主分類號: G01J3/28
• 分類號: G01J3/28;G01J1/42;G01J3/50
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 林寶堂

1.一種二維光譜測量裝置，包括機殼(1)，在機殼(1)上設置鏡頭(2)，被測二維目標(20) 所發出的被測光束從鏡頭(2)進入機殼(1)，并成像于機殼(1)內，其特征在于：在機殼(1) 內設置觀察器(3)和由狹縫(4)、色散部件(5)和二維多通道探測器(6)組成的光譜儀(7)； 所述的狹縫(4)為帶矩形狹縫的平面反射鏡，從鏡頭(2)出射的光被所述的狹縫(4)分成 至少兩路，來自鏡頭(2)的一部分光束穿過狹縫(4)進入光譜儀(7)內，來自鏡頭(2)的另 一部分光束被反射到觀察器(3)；狹縫(4)位于被測二維目標(20)的像面位置，在機殼(1) 內或者在機殼(1)上設置使狹縫(4)與被測二維目標(20)像面產生相對位移的掃描機構 (8)；所述的掃描機構(8)是與光譜儀(7)相連并驅動光譜儀(7)平移的平移機構，或者所 述的掃描機構(8)是一個驅動機殼(1)整體轉動的轉動機構，或者所述的掃描機構(8)是 一個位于鏡頭(2)與狹縫(4)間光路上的光學旋轉鏡。

2.根據權利要求1所述的二維光譜測量裝置，其特征在于所述的觀察器(3)為光學目鏡系 統。

3.根據權利要求1所述的二維光譜測量裝置，其特征在于所述的觀察器(3)為二維光電探 測器陣列，且該二維光電探測器陣列位于被測二維目標(20)的像面位置上。

4.根據權利要求1或2或3所述的二維光譜測量裝置，其特征在于在所述的鏡頭(2)到觀 察器(3)之間的光路上設置濾色片(15)。