[發(fā)明專利]磁吸有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910208019.4 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101994444A | 公開(kāi)(公告)日: | 2011-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 東鄉(xiāng)宏昭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瀧源制造株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | E05C19/16 | 分類號(hào): | E05C19/16 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 馬淑香 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁吸 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種用于在設(shè)備的制造現(xiàn)場(chǎng)和使用現(xiàn)場(chǎng)等通過(guò)磁吸附將兩個(gè)對(duì)象物連接保持的磁吸(magnetic?catch)。
背景技術(shù)
現(xiàn)在使用的磁吸中,在收容磁體的殼本體的左右側(cè)面部一體地形成底座部,這些底座部上設(shè)有用于安裝對(duì)象物的固接孔(參照專利文獻(xiàn)1)。
專利文獻(xiàn)1中的磁吸中,由于左右底座部相對(duì)于殼本體是不動(dòng)的,因此上述固接孔間的距離固定不變,當(dāng)安裝對(duì)象物側(cè)的承接孔的間距尺寸與上述固接孔間的距離不一致時(shí),則對(duì)該安裝對(duì)象物不適用。
對(duì)應(yīng)安裝對(duì)象物側(cè)的承接孔的不同的間距尺寸來(lái)制作改變上述固接孔間的距離的磁吸時(shí),會(huì)成為少品種的少量生產(chǎn),制作成本很高。此外,生產(chǎn)上述固接孔間的距離不同的多種磁吸時(shí),其倉(cāng)儲(chǔ)管理也變得復(fù)雜。
專利文獻(xiàn)1:日本專利特開(kāi)2008-19646號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種對(duì)應(yīng)設(shè)于安裝對(duì)象物的承接孔的間距尺寸能在大范圍內(nèi)增減調(diào)整一對(duì)底座的固接孔間的距離的磁吸。
本發(fā)明的磁吸中,收容磁體的殼本體與將上述殼本體固接于安裝對(duì)象物的一對(duì)底座分體構(gòu)成,上述各底座由調(diào)整用臂和底座本體構(gòu)成,上述調(diào)整用臂從上述殼本體的底座插入用開(kāi)口出入底座收納室,上述底座本體具有用于與安裝對(duì)象物固接的固接孔,上述各調(diào)整用臂的內(nèi)側(cè)端部設(shè)有導(dǎo)向槽,上述底座收納室的背蓋板上設(shè)有插入上述兩導(dǎo)向槽的導(dǎo)向突起,上述底座收納室的另一側(cè)壁上設(shè)有在該側(cè)壁的厚度方向上彈性變形的一對(duì)卡定舌片,通過(guò)使上述各卡定舌片的卡定用齒列與上述各調(diào)整用臂的側(cè)面部的被卡定用齒列彈性卡合,使得上述底座固定保持于上述殼本體,增減上述一對(duì)底座的固接孔間的距離。
如上所述,本發(fā)明的磁吸中,通過(guò)使上述一對(duì)底座朝著相互接近或遠(yuǎn)離的方向滑動(dòng),能使上述一對(duì)底座相對(duì)于上述殼本體的配置位置在上述調(diào)整用臂的導(dǎo)向槽的長(zhǎng)度與上述背蓋板的導(dǎo)向突起的長(zhǎng)度之差的2倍范圍內(nèi)變動(dòng),此外,通過(guò)使設(shè)于上述底座收納室的另一側(cè)壁的一對(duì)卡定舌片的卡定用齒列與上述各調(diào)整用臂的側(cè)面部的被卡定用齒列彈性卡合,能使上述一對(duì)底座在該變更位置上固定保持于上述殼本體。即,根據(jù)本發(fā)明,能對(duì)應(yīng)設(shè)于安裝對(duì)象物的承接孔的間距尺寸簡(jiǎn)單且可靠地增減調(diào)整上述一對(duì)底座的固接孔間的距離,從而能廣泛地用在固接件的承接孔的間距尺寸不同的各種安裝對(duì)象物上。
由于能使用一種磁吸對(duì)應(yīng)承接孔的間距尺寸不同的多種安裝對(duì)象物,因此可通過(guò)大量生產(chǎn)降低生產(chǎn)成本,簡(jiǎn)化倉(cāng)儲(chǔ)管理。
附圖說(shuō)明
圖1是本發(fā)明一實(shí)施例的磁吸的主視圖,處于左右一對(duì)底座最大深度地插入殼本體的狀態(tài)。
圖2是圖1的磁吸的俯視圖。
圖3是圖1的磁吸的仰視圖。
圖4是圖1的磁吸的左視圖。
圖5是圖1的磁吸的右視圖。
圖6是圖1的A-A線剖視圖。
圖7是圖1的B-B線剖視圖。
圖8是圖2的C-C線剖視圖。
圖9是圖1的D-D線剖視圖。
圖10是與圖1的磁吸組合使用的托架的主視圖。
圖11是圖10的托架的俯視圖。
圖12是圖10的E-E線剖視圖。
圖13是圖1的磁吸和圖10的托架的使用狀態(tài)的主視圖,表示磁吸附被解除的狀態(tài)。
圖14是使用于圖1的磁吸的殼本體的主視圖。
圖15是圖14的殼本體的俯視圖。
圖16是圖14的殼本體的左視圖。
圖17是圖14的殼本體的右視圖。
圖18是圖14的F-F線剖視圖。
圖19是圖16的G-G線剖視圖。
圖20是圖14的H-H線剖視圖。
圖21是圖20的點(diǎn)劃線圓部分的放大圖。
圖22是使用于圖1的磁吸的左側(cè)底座的主視圖。
圖23是圖22的底座的后視圖。
圖24是圖22的底座的俯視圖。
圖25是圖22的底座的仰視圖。
圖26是圖22的底座的右視圖。
圖27是圖22的I-I線剖視圖。
圖28是使用于圖1的磁吸的右側(cè)底座的主視圖。
圖29是圖28的底座的俯視圖。
圖30是圖28的底座的仰視圖。
圖31是圖28的底座的左視圖。
圖32是圖28的J-J線剖視圖。
圖33是使用于圖1的磁吸的背蓋板的主視圖。
圖34是圖33的背蓋板的俯視圖。
圖35是圖33的背蓋板的右視圖。
圖36是圖34的K-K線剖視圖。
(符號(hào)說(shuō)明)
1磁吸的殼本體
2磁體收容室
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