[發(fā)明專利]錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910207252.0 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102043396A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李增榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 東典科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G05B19/418 | 分類號(hào): | G05B19/418 |
| 代理公司: | 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽(yáng) |
| 地址: | 中國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 錯(cuò)誤 診斷 分類 監(jiān)控 系統(tǒng) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng),更詳而言之,涉及一種用在半導(dǎo)體工藝設(shè)備進(jìn)行錯(cuò)誤診斷與分類(fault?detection?and?classification,F(xiàn)DC)的工藝監(jiān)控系統(tǒng)。
背景技術(shù)
隨著半導(dǎo)體工藝技術(shù)的成熟發(fā)展,半導(dǎo)體元件制造廠無(wú)不致力在降低生產(chǎn)成本以求存,以維持市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)能力,即根據(jù)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖(International?Technology?Roadmap?for?Semiconductors,ITRS)所提出的報(bào)告指出,縮小集成電路(integrated?circuit,IC)的特征尺寸(feature?sizes)、加大晶圓直徑尺寸、提升產(chǎn)出良率(yield)、及增加整體設(shè)備效率(overall?equipment?effectiveness,OEE)為較為可行的降低半導(dǎo)體元件的成本的方式,但由于尺寸與產(chǎn)出良率的發(fā)展已趨向于極限,但是整體設(shè)備效率仍有很大的改善空間,特別是半導(dǎo)體設(shè)備本身的事故問題將會(huì)對(duì)工藝良率(yield)產(chǎn)生重大的損害,因此,為了增加整體設(shè)備效率,國(guó)際知名的半導(dǎo)體元件制造廠及研究機(jī)構(gòu)均相繼投入有關(guān)廠務(wù)(factory)與測(cè)量(metrology)整合系統(tǒng)及自動(dòng)化監(jiān)控系統(tǒng)的研發(fā),其中,又以高階程序控制(Advanced?Process?Control,APC)技術(shù)最受到青睞。
在現(xiàn)有技術(shù)中,半導(dǎo)體設(shè)備的管理者通常會(huì)使用高階程序控制中的錯(cuò)誤診斷及分類(fault?detection?and?classification,F(xiàn)DC)系統(tǒng)來(lái)分析工藝設(shè)備的輸出數(shù)據(jù),用以協(xié)助半導(dǎo)體工藝中的工作人員降低因上述的事故問題所產(chǎn)生的非工作預(yù)定的設(shè)備停機(jī)次數(shù),且適時(shí)偵測(cè)出發(fā)出錯(cuò)誤警示,即利用預(yù)測(cè)性維修(Predictive?Maintenance)的功能以期減少不良品或廢品的發(fā)生率,并進(jìn)一步配合計(jì)算機(jī)集成制造(Computer?Integrated?Manufacturing,CIM)系統(tǒng)以預(yù)防性維修(Preventative?Maintenance)的功能排除上述事故問題對(duì)于工藝良率的影響。
具體而言,錯(cuò)誤診斷與分類系統(tǒng)是一種用在半導(dǎo)體設(shè)備執(zhí)行時(shí),可直接監(jiān)視工藝參數(shù)以偵測(cè)出可能造成異常的狀況,其中,工藝參數(shù)可包括電流、濕度、濃度、水阻、壓力及/或流量等,以供主機(jī)臺(tái)分別設(shè)定各工藝設(shè)備的工藝參數(shù),用以完成諸如金屬沉積(metal?deposition)、氧化物生長(zhǎng)(oxide?growth)、離子植入(implantation)等特定處理,例如,溫度在特定制造作業(yè)時(shí),如熱氧化(thermal?oxidation),若所需的溫度急劇下降時(shí),則會(huì)造成工藝缺陷。
如圖1所示,現(xiàn)有錯(cuò)誤診斷與分類系統(tǒng)10主要包括工藝設(shè)備11及監(jiān)控主機(jī)12,兩者之間采用由半導(dǎo)體設(shè)備與材料國(guó)際聯(lián)盟(Semiconductor?Equipment?and?Material?International,SEMI)所制定的半導(dǎo)體設(shè)備通訊標(biāo)準(zhǔn)(Semiconductor?Equipment?Communication?Standard,SECS)連接端口111來(lái)進(jìn)行傳輸,并通過使用者界面112來(lái)個(gè)別監(jiān)控每一工藝設(shè)備11。但是,半導(dǎo)體工藝設(shè)備的制造商基于商業(yè)機(jī)密而多不輕易公開技術(shù)內(nèi)容,所以一般對(duì)于工藝設(shè)備僅保留SECS連接端口與系統(tǒng)主機(jī)的信號(hào)連接或是僅開放極小部份硬件可供下游廠商自行修改或更動(dòng),因此,一旦需要增加新的硬件線路往往需要求助于制造商的協(xié)助,如此除了將耗費(fèi)相當(dāng)?shù)娜肆Τ杀就猓鼤?huì)因溝通時(shí)間往返的延誤而影響整體生產(chǎn)效能,甚至造成產(chǎn)線的停擺。
鑒于以上所述背景技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的主要目的即在提供一種應(yīng)用在半導(dǎo)體工藝的錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng),實(shí)為相關(guān)領(lǐng)域的業(yè)者目前亟待解決的課題。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn),本發(fā)明的一個(gè)目的在于提供一種可分別處理設(shè)備信息與狀態(tài)信息以節(jié)省人力耗費(fèi)的錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng)。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種可使用機(jī)動(dòng)性的錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng)。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種可無(wú)須在各區(qū)域現(xiàn)場(chǎng)逐一確認(rèn)工藝設(shè)備的使用狀態(tài)而具備機(jī)動(dòng)性的錯(cuò)誤診斷與分類監(jiān)控系統(tǒng)。
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