[發明專利]顯示裝置及其制造方法有效
| 申請號: | 200910206475.5 | 申請日: | 2009-11-13 |
| 公開(公告)號: | CN101740504A | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 田中洋志;堀和仁 | 申請(專利權)人: | 索尼株式會社 |
| 主分類號: | H01L21/82 | 分類號: | H01L21/82;H01L21/56;H01L27/32;H01L23/28;G09F9/33 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 顧晉偉;王春偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 及其 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及顯示裝置及其制造方法,所述顯示裝置包括在使用有機發 光器件(有機EL(電致發光)器件)的發光面板的光提取側上用于改善 亮度的反射體。
背景技術
自發光器件例如有機發光器件依次包括在基板上的第一電極、包含發 光層的層和第二電極,當在第一電極和第二電極之間施加DC電壓時,在 發光層中產生電子空穴復合從而發光。發射的光可從更靠近第一電極和基 板的側面提取,或者發射的光可從更靠近第二電極的一側(即從與其中布 置有包括TFT(薄膜晶體管)或者配線的電路以增加開口率的側面相反的 側面)提取。
使用自發光器件的顯示裝置的一個實例是使用有機發光器件的顯示裝 置,例如,如日本未審查的專利申請公開No.2005-227519所述。然而,在 相關技術的顯示裝置中,由發光層發出的光沒有通過全反射或類似方式從 顯示裝置提取,所以顯示裝置的光使用效率不是很高。因此,例如,如日 本未審查的專利申請公開No.2007-248484中所述,提出將被稱為反射體的 光學部件直接設置在有機發光器件上以改善光提取效率。通過在基體例如 玻璃上設置多個凸狀的反射元件形成反射體,并且在每個反射元件的側表 面上形成反射鏡膜。
發明內容
然而,在相關技術中的制造反射體的這種方法中,在形成反射元件之 后,需要后處理以在每個反射元件的側表面上形成反射鏡膜。因此,在相 關技術的制造反射體的方法中,需要在大的面積上的成膜步驟和拋光步 驟,由此耗費相當大的努力,并且成膜步驟和拋光步驟使成本增加而產率 降低。而且,由例如鋁(Al)制成的反射鏡膜的反射率最大為約90%,由 此因吸收而導致損失。
此外,日本未審查的專利申請公開No.2004-164912中記載:在透射由 發光層輸出的光的透射層中設置凹陷24,并且每個凹陷24的側表面24a 用作全反射面。凹陷24的內部充有氣體或者為基本真空狀態。然而,在日 本未審查的專利申請公開No.2005-227519中,沒有描述使得凹陷24的內 部成為基本真空狀態的具體制造方法。此外,在凹陷24的內部充有氣體的 情況下,有機發光器件由于濕氣等的影響而劣化,由此可靠性可能降低。
此外,在日本未審查的專利申請公開No.2004-164912中,當基板11 和透明元件22在減壓氣氛中對準、然后彼此接觸時,通過旋涂利用粘合層 17涂敷整個基板11,所以特別是在其中基板大的情況下,難以利用粘合層 均勻地涂敷基板。
期望提供一種顯示裝置及其制造方法,其不需要用于形成反射鏡膜的 復雜的后處理并可防止發光器件劣化。
根據本發明的一個實施方案,提供一種制造顯示裝置的方法,包括以 下步驟(A)~(D):
(A)在基板上的顯示區域中形成多個有機發光器件以形成發光面板;
(B)在基體上形成分別對應于所述多個有機發光器件的凸狀反射元 件以形成反射體;
(C)沿發光面板的外邊緣形成粘合層;和
(D)在真空氣氛中將發光面板和反射體與粘合層接合在一起,由此 在發光面板和反射體之間的空間中形成真空層。
根據本發明的一個實施方案,提供一種包括以下部件(A)~(D)的 顯示裝置,即:
(A)包括在基板上的顯示區域中的多個有機發光器件的發光面板;
(B)包括在基體上分別對應于所述多個有機發光器件的凸狀反射元 件的反射體;
(C)沿發光面板的外邊緣形成以將發光面板和反射體接合在一起的 粘合層;和
(D)在發光面板和反射體之間的空間中形成的真空層。
在根據本發明一些實施方案的顯示裝置中,發光面板和反射體之間的 空間是真空層,所以從發光面板上的有機發光器件發出的光從其頂端表面 進入每個反射元件,并通過每個反射元件的側表面與真空層之間的界面反 射以使得光被提取至外部。此外,消除了濕氣等從發光面板和反射體之間 的空間進入有機發光器件的可能性,并防止有機發光器件由于濕氣等的影 響所導致的劣化。
在根據本發明一些實施方案制造顯示裝置的方法中,沿發光面板外邊 緣形成粘合層,然后在真空氣氛中使發光面板和反射體與粘合層接合在一 起,由此在發光面板和反射體之間的空間中形成真空層。因此,不需要用 于形成反射鏡膜的復雜的后處理,并且可防止有機發光器件的劣化。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





