[發明專利]含有芳香環的光致產酸劑

有效

• 申請號: 200910206329.2
• 申請日: 2009-10-15
• 公開（公告）號: CN101727004A
• 公開（公告）日: 2010-06-09
• 發明（設計）人: 吳貞薰;徐東轍;申珍奉
• 申請（專利權）人: 錦湖石油化學株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 過曉東

技術領域

本發明涉及含有芳香環的產酸劑，更具體而言，本發明涉及含有芳香 環的產酸劑，其包含在用于半導體加工中的化學放大型抗蝕劑組合物。

背景技術

用于利用平版印刷進行半導體精細加工中的化學放大型抗蝕劑組合物 含有產酸劑，隨著支持半導體精細加工的技術持續發展，仍然需要具有更 高分辨率的抗蝕劑。

因此，為了生產具有增強的分辨率和期望的性能的抗蝕劑，已開發出 了大量不同的產酸劑，并且為了改善透明度和酸的擴散率，在用作產酸劑 的鹽的陽離子部分的設計中已經進行了許多改變和實驗，所述透明度和酸 的擴散率是與高分辨率相關的一些性能。

然而，在近來對抗蝕劑組合物的研究中，專注于陽離子部分的光致產 酸劑的開發開始在抗蝕劑性質改進中面臨限制，已經出現進入水中的流出 物減少的問題，而這是必要的，因為在浸沒式ArF法中使用水。

因此，基于許多實驗數據和文章報告陰離子部分可以比陽離子部分對 大大提高酸的流動性的物理和化學性能以及抗蝕劑組合物的性能產生更大 的影響，最近已經完成了與產酸劑的陰離子部分相關的新發明。這些新發 明專注于降低酸的擴散率，并能控制ArF輻射在193nm處的透過性的光致產 酸劑的發明（例如，韓國專利申請號10-2006-0104718、10-2006-0133676、 10-2005-0107599、10-2006-0114104和10-2008-0023406）。

發明內容

隨著上述陰離子的研究趨勢，為了生產可以解決酸的擴散率、擴散的 距離、吸光率等問題，并具有更優越性能的產酸劑，本發明提供一種新穎 的產酸劑，其在化學放大型抗蝕劑組合物中具有優越的分辨率和線寬粗糙 度，并在ArF浸沒法中具有更少流出物進入水中。

本發明還提供用于生產產酸劑的中間體，以及用于合成所述中間體物 質的方法。

依據本發明的一方面，提供下式（1）表示的產酸劑：

[式1]

其中X表示具有1-10個碳原子的亞烷基、-X₁-O-X₂-、或選自氮（N）、硫（S） 和氟（F）的雜原子；X₁和X₂彼此獨立地表示具有1-10個碳原子的亞烷基； Y表示具有5-30個碳原子并含有一個或多個芳香環的環狀烴基，該環狀烴基 的環上的一個或多個氫原子可以被一個或多個選自以下組中的成員取代： –O-Y₁、-CO-Y₂、具有1-6個碳原子的烷基、具有1-6個碳原子的烷氧基、具 有1-4個碳原子的全氟烷基、具有1-4個碳原子的全氟烷氧基、具有1-6個碳 原子的羥基烷基、鹵素原子、羥基和氰基；Y₁和Y₂彼此獨立地表示具有1-6 個碳原子的烷基；n表示1；和A⁺表示有機反離子。

A⁺優選是由下面式（2A）、式（2B）、式（3A）或式（3B）表示的陽離 子：

[式2A]

[式2B]

其中R₁和R₂彼此獨立地表示具有1-12個碳原子的烷基、烯丙基和具有2-12個 碳原子的烯基、具有1-12個碳原子的全氟烷基、苯甲基或具有5-20個碳原子 的芳基；R₃、R₄和R₅彼此獨立地表示氫原子、具有1-12個碳原子的烷基、鹵 素原子、具有1-12個碳原子的烷氧基、具有5-12個碳原子的芳基、硫代苯氧 基、具有1-12個碳原子的硫代烷氧基、或具有1-6個碳原子的烷氧羰基甲氧 基；

[式3A]

[式3B]