[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)頭力矩器及光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910204857.4
• 申請(qǐng)日: 2009-10-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101751947A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樸世濬;金石中
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): G11B7/12
• 分類(lèi)號(hào): G11B7/12;G11B21/02;G11B7/004
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 張波

1.一種光學(xué)頭力矩器，包括：

三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)物鏡以將激光束聚焦在盤(pán)上；以及

切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿所述切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述物鏡。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元包括：

樞軸支撐物，支撐所述三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于所述循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)；以及

切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路，提供能夠使所述三軸驅(qū)動(dòng)單元繞平行于所述循跡方向的軸樞軸旋轉(zhuǎn)的電磁力。

3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述三軸驅(qū)動(dòng)單元包括：

基底；

第一接線座和第二接線座，在所述基底上沿切線方向彼此分隔開(kāi)；

具有所述物鏡的透鏡架，設(shè)置在所述第一接線座與所述第二接線座之間并以預(yù)定距離與所述基底間隔開(kāi)；

多根線，具有連接到所述第一接線座和所述第二接線座之一的第一端和連接到所述透鏡架的第二端以支撐所述透鏡架；以及

三軸驅(qū)動(dòng)磁路，沿所述聚焦方向、所述循跡方向和所述徑向傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述透鏡架。

4.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路包括：

裝設(shè)到所述第一接線座的一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和裝設(shè)到所述第二接線座的一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈；

設(shè)置為面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈的一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體，以及設(shè)置為面對(duì)所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈的一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體，

其中由所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力沿與由所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體產(chǎn)生的電磁力相反的方向流動(dòng)。

5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還包括：

第一切線傾斜軛和第二切線傾斜軛，所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體分別附著到所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛。

6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜線圈和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜線圈成對(duì)地設(shè)置并沿所述循跡方向裝設(shè)到所述第一接線座的相對(duì)側(cè)和所述第二接線座的相對(duì)側(cè)，并且

所述一個(gè)或多個(gè)第一切線傾斜磁體和所述一個(gè)或多個(gè)第二切線傾斜磁體成對(duì)地設(shè)置。

7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)磁路還包括：

一對(duì)第一切線傾斜軛，一對(duì)第一切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第一切線傾斜軛，以及

一對(duì)第二切線傾斜軛，一對(duì)第二切線傾斜磁體裝設(shè)到該對(duì)第二切線傾斜軛。

8.如權(quán)利要求7所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述樞軸支撐物包括一對(duì)板彈簧，該對(duì)板彈簧設(shè)置為沿所述循跡方向彼此面對(duì)以支撐所述基底的下側(cè)。

9.如權(quán)利要求8所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元還包括：

支撐構(gòu)件，支撐所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛以及該對(duì)板彈簧。

10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)頭力矩器，其中所述支撐構(gòu)件與所述第一切線傾斜軛和所述第二切線傾斜軛整體地形成。

11.一種光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置，該光學(xué)記錄/再現(xiàn)裝置包括光學(xué)頭、驅(qū)動(dòng)所述光學(xué)頭的驅(qū)動(dòng)單元以及控制所述驅(qū)動(dòng)單元的控制單元，所述光學(xué)頭將信息記錄在盤(pán)上和/或再現(xiàn)來(lái)自所述盤(pán)的信息，

其中所述光學(xué)頭包括：

光學(xué)系統(tǒng)，檢測(cè)從所述盤(pán)反射的激光束，所述光學(xué)系統(tǒng)具有物鏡以將激光束聚焦在所述盤(pán)上；以及

光學(xué)頭力矩器，驅(qū)動(dòng)所述物鏡，

其中所述光學(xué)頭力矩器包括：

三軸驅(qū)動(dòng)單元，分別沿聚焦方向、循跡方向和徑向傾斜方向單獨(dú)地驅(qū)動(dòng)所述物鏡；以及

切線傾斜驅(qū)動(dòng)單元，沿切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述三軸驅(qū)動(dòng)單元以沿所述切線傾斜方向驅(qū)動(dòng)所述物鏡。