[發明專利]減光濾光器以及其制造方法和脫模成形裝置

無效

• 申請號: 200910204455.4
• 申請日: 2009-09-29
• 公開（公告）號: CN101726781A
• 公開（公告）日: 2010-06-09
• 發明（設計）人: 武井章
• 申請（專利權）人: 立志凱株式會社
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G03B11/04;G03B9/02
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李洋

技術領域

本發明是關于照相機等光學器具所使用的ND濾光器及減光濾光器以及采用它的光量調整裝置、和其制造方法、成形裝置的發明，涉及能夠將形成有規定濃度圖案的濾光器在準確的位置上以正確的圖案形狀配置在光路中的定位機構的改良。

背景技術

一般來講，這種減光濾光器配置在照相機(攝像裝置)等光學器具的光路中，作為使通過的光量衰減的濾光器被廣泛使用。例如在攝像裝置中，作為ND濾光器(中型密度濾光器)使攝影光量衰減而用于調整光闌值。

在圖14中示出了現有的ND濾光器的結構以及制造方法。如該圖所示那樣，在光路開口11a上開閉自如地配置光闌葉片(開閉部件，以下相同)。此時，要求在小光闌時使該光闌值衰減、延遲快門速度來進行長時間攝影。于是在光闌葉片11的開口緣添裝濾光器(以下稱為“濾光器基片”)14，構成為使光量衰減的末端14a面臨光路中心。

作為這樣的光闌葉片的制造方法，在將濾光器基片14添裝到光闌葉片11上時采用貼裝用的夾具40由粘結劑接合。該夾具40由例如載置臺40構成，該載置臺40設有抵靠濾光器14的端面對其進行限制的基片抵靠面(圖示為臺階)40a、和抵靠光闌葉片11的端面對其進行限制的葉片抵靠面(圖示為臺階)40b。也就是說，在構成夾具的載置臺40上設置定位濾光器基片14的抵靠面和定位光闌葉片的抵靠面，通過在該載置臺上對葉片位置(姿勢)和基片位置(姿勢)進行限制，由此制作成以規定姿勢將濾光器基片14配置在光路開口11a中。

在這樣的夾具40上將光闌葉片11與濾光器基片14對位的狀態下，作業者由手指按壓，在粘結劑固化之前都維持該狀態，這成為兩者位置偏差的原因。于是本申請人提出了圖13所示的方法。該方法如專利文獻1所公開的那樣，在工作臺狀的載置臺40上立設定位銷40b、40c。并且，將適合于該定位銷40b、40c的嵌合孔作為孔11b、11c配置在光闌葉片11上，同樣在濾光器基片14上作為孔14b、槽14c形成。這樣，在定位銷40b、40c上嵌合光闌葉片的孔11b、11c，進而在其上嵌合濾光器基片的孔端面14b、槽端面14c，使之重合。另外，圖示14m為形成在濾光器基片14上的粘結用的狹槽，15為粘結劑層。

由此，在配置于一處或多處的定位銷40b、40c上嵌合支承光闌葉片11，進而在其上嵌合支承濾光器基片14，從而在從兩個部件重合起到粘結劑固化之前的期間，能夠沒有錯位地制造葉片部件。

【專利文獻1】日本特開2001-356386號公報

如上所述，在濾光器基片和光闌葉片上分別由孔、槽、外形緣等構成定位用的端面，在該端面上嵌合定位銷來將兩個板狀部件接合，此時會發生如下問題。

在上述的專利文獻1的場合，濾光器基片14覆蓋形成單濃度、即基片整體為均勻濃度(均勻厚度)的減光膜。對于這樣的單濃度基片而言，若面臨光路開口的基片的形狀與占據開口的面積與規定設計值一致的話，則能夠大量生產同樣功能的濾光器、光量調整裝置。

然而，作為濾光器基片，當構成光透過率不同的多濃度濾光器時，即使將該基片面臨光路開口的形狀和面積均勻，若濃度圖案不同的話，則會形成光學特性不同的產品。例如在濃度分階段變化的濃度圖案的多段濃度濾光器構成、或者濃度線性漸減的濃度圖案的漸變濾光器構成的場合，若施加給基片的濃度圖案與預先設定的設計值不一致的話，則無法大量生常相同功能的濾光器。

于是，在現有的制造方法中，在生產這樣的多濃度濾光器的場合，作業者需要一邊目視濃度圖案一邊以粘結劑將基片添裝在光闌葉片的最合適位置上，此外別無他法。如圖12所示那樣，由蒸鍍膜等在塑料片材等基材F上形成減光膜，由該片材通過脫模成形等成形出濾光器基片。此時，在多濃度濾光器構成中，如該圖所示那樣在片材上形成第一濃度區域ND1和第二濃度區域ND2的濃度圖案。該圖的圖案在區域ND1和區域ND2分別形成為均勻的濃度，區域ND1的透光率設定得比區域ND2的透光率大。為此，在區域的邊界上呈直線狀地描繪出濃度邊界線NL1。于是，從片材素材F通過圖示形狀的脫模成形模沖壓成形濾光器。此時，若在濃度邊界線NL1產生傾斜d的話，則在濾光器Y和濾光器Z中濃度區域的面積會不同。這樣，在相同的作業工序中進行制作，對于濾光器Y和Z來講光學特性(特別是光吸收性能)是不同的。