[發(fā)明專利]解耦機構及使用所述解耦機構的曝光臺

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910200946.1
• 申請日: 2009-12-25
• 公開（公告）號: CN102109766A
• 公開（公告）日: 2011-06-29
• 發(fā)明（設計）人: 吳立偉;鄭樂平
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種實現(xiàn)粗動臺與微動臺的Rz向旋轉解耦的解耦機構，其特征在于，所述解耦機構在所述粗動臺與所述微動臺之間形成浮動連接。

2.如權利要求1所述的解耦機構，其特征在于，所述解耦機構包括連接在一起的半圓柱形氣浮模塊、半圓柱形滑塊、以及側向平面氣浮模塊，其中所述半圓柱形氣浮模塊與所述微動臺的承片臺連接，而所述側向平面氣浮模塊與所述粗動臺的橫梁導軌連接。

3.如權利要求1所述的解耦機構，其特征在于，所述解耦機構包括連接在一起的半圓柱形磁浮模塊、半圓柱形滑塊、以及側向平面磁浮模塊，其中所述半圓柱形磁浮模塊與所述微動臺的承片臺連接，所述側向平面磁浮模塊與所述粗動臺的橫梁導軌連接。

4.一種曝光臺，其特征在于，包括粗動臺和微動臺，以及設置在所述粗動臺與所述微動臺之間的、如前述權利要求任一項所述的解耦機構，其中所述粗動臺與所述微動臺通過所述解耦機構形成浮動連接。

5.如權利要求4所述的曝光臺，其特征在于，所述粗動臺X向和Y向長行程電機進行驅動，其中所述Y向長行程電機的左側驅動裝置和導向左側直線電機磁鐵、左側直線電機磁鐵支架、左側直線電機動子、左側一維垂向氣浮導軌以及垂向氣浮模塊，其中所述垂向氣浮模塊使得所述粗動臺懸浮于所述左側一維垂向氣浮導軌之上，所述左側直線電機動子與所述粗動臺固連，所述左側直線電機磁鐵支架與三自由度反向運動質量體固連，當所述Y向長行程電機驅動時，所述粗動臺沿著所述左側一維垂向氣浮導軌Y向運動。

6.如權利要求5所述的曝光臺，其特征在于，所述Y向長行程電機的右側驅動裝置和導向裝置包括右側直線電機磁鐵、右側直線電機磁鐵支架、右側直線電機動子、右側二維氣浮導軌滑塊、右側二維氣浮導軌、垂向氣浮模塊以及側向氣浮模塊，其中所述垂向氣浮模塊使得所述粗動臺懸浮于所述右側二維垂向氣浮導軌之上，所述側向氣浮模塊使得所述粗動臺受到所述右側二維氣浮導軌的X向定位約束，由此對所述粗動臺具有二維導向作用，所述右側二維氣浮導軌滑塊與所述固連，且所述直線電機動子也與所述粗動臺固連，所述右側直線電機磁鐵支架與三自由度反向運動質量體固連，當所述Y向長行程電機驅動時，所述粗動臺沿著所述右側二維垂向氣浮導軌Y向運動。

7.如權利要求6所述的曝光臺，其特征在于，所述粗動臺設有Rz限位裝置，當所述粗動臺在Rz向相對所述旋轉角度超出預先設定值時，所述限位傳感器對所述Y向長行程直線電機進行控制以避免所述粗動臺與所述微動臺發(fā)生碰撞。

8.如權利要求7所述的曝光臺，其特征在于，所述Rz限位裝置為Rz角速度傳感器。

9.如權利要求4所述的曝光臺，其特征在于，所述解耦機構安裝有防撞保護裝置，以防止所述微動臺與所述粗動臺之間的碰撞。

10.如權利要求9所述的曝光臺，其特征在于，所述防撞保護裝置為磁浮防撞保護結構。

11.如權利要求9所述的曝光臺，其特征在于，所述防撞保護裝置為電磁鐵防撞保護結構。

12.如權利要求9所述的曝光臺，其特征在于，所述防撞保護裝置為彈簧防撞保護結構。