[發明專利]一種化學機械拋光液

有效

• 申請號: 200910200315.X
• 申請日: 2009-12-11
• 公開（公告）號: CN102093816B
• 公開（公告）日: 2017-02-22
• 發明（設計）人: 王晨;何華鋒
• 申請（專利權）人: 安集微電子(上海)有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C23F3/04
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學機械拋光液，含有水，研磨劑，氧化劑和水溶性陽離子表面活性劑。

2.根據權利要求1所述的拋光液，所述的研磨劑為氣相二氧化硅(fumedsilica)和/或硅溶膠(colloidal?silica)。

3.根據權利要求1所述的拋光液，所述的氧化劑為含鐵氧化劑或含鐵氧化劑和其他氧化劑的組合物。

4.根據權利要求3所述的拋光液，所述的含鐵氧化劑為硝酸鐵。

5.根據權利要求3所述的拋光液，所述的含鐵氧化劑和其他氧化劑的組合物為硝酸鐵和單過硫酸氫鉀的組合物。

6.根據權利要求1所述的拋光液，所述的水溶性陽離子表面活性劑為長鏈烷基氯化銨、長鏈烷基溴化銨、末端含硅氧鍵的長鏈烷基氯化銨、吉米奇類型季銨鹽、聚合型季銨鹽中的一種或多種。

7.根據權利要求6所述的拋光液，所述的水溶性陽離子表面活性劑優選為十二烷基三甲基氯化銨、十二烷基三甲基溴化銨、芐基三甲基氯化銨、辛基三甲基氯化銨、3-三乙氧基硅基丙基三甲基氯化銨、十八烷基胺聚氧乙烯醚雙季銨鹽和/或聚季銨鹽-10中的一種或多種。

8.根據權利要求1所述的拋光液，所述的研磨劑的質量百分比為0.2％～4％。

9.根據權利要求4或5所述的拋光液，所述的硝酸鐵的質量百分比為0.05％～1.5％。

10.根據權利要求1所述的拋光液，所述的水溶性陽離子表面活性劑的濃度為100-500ppm。

11.根據權利要求1所述的拋光液，pH值為1.5-2.5。