[發(fā)明專利]一種掃描光刻機掩模臺位置測量裝置及測量方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910200089.5
• 申請日: 2009-12-08
• 公開（公告）號: CN102087475A
• 公開（公告）日: 2011-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許琦欣
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 王潔

1.一種掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，包括：

水平縱向測量模塊(101)，水平橫向測量模塊(102)，掩模臺(103)，物鏡(104)和主基板(113)；

其特征在于：

所述水平縱向測量模塊(101)和所述水平橫向測量模塊(102)均包括若干干涉儀測量軸；

所述掩模臺(103)面對水平縱向測量模塊(101)的一側(cè)安裝有第一角錐棱鏡(109)和第二角錐棱鏡(115)，面對水平橫向測量模塊(102)的一側(cè)安裝有第一長條平面反射鏡(118)，所述掩模臺(103)底部沿水平縱向安裝有第二長條平面反射鏡(110)和第三長條平面反射鏡(114)；所述物鏡(104)頂部和所述第二長條平面反射鏡(110)、第三長條平面反射鏡(114)正下方，安裝有若干45度反射鏡和平面反射鏡。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述水平縱向測量模塊(101)至少包括六個干涉儀測量軸，分別為Y1，Y2，YR，Z1，Z2，Z3；所述水平橫向測量模塊(102)至少包括兩個干涉儀測量軸，分別為X1，XR；所述45度反射鏡至少為三個，分別為第一45度反射鏡(105)，第二45度反射鏡(106)，第三45度反射鏡(107)；所述平面反射鏡至少為兩個，分別為第一平面反射鏡(111)，第二平面反射鏡(112)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述YR干涉儀測量軸位于水平縱向軸線上，所述XR干涉儀測量軸位于水平橫向軸線上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述第一角錐棱鏡109、第二角錐棱鏡115分別對應(yīng)于所述干涉儀測量軸Y1、Y2，使所述干涉儀測量軸Y1、Y2的出射光分別能被所述第一角錐棱鏡109、第二角錐棱鏡115反射后沿原路返回；所述第二平面反射鏡112對應(yīng)于所述干涉儀測量軸YR，使所述干涉儀測量軸YR的出射光能被所述第二平面反射鏡112反射后沿原路返回。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述第一長條平面反射鏡118對應(yīng)于干涉儀測量軸X1，使干涉儀測量軸X1的出射光能被所述第一長條平面反射鏡118反射后沿原路返回；所述第一平面反射鏡111對應(yīng)于干涉儀測量軸XR，使干涉儀測量軸XR的出射光能被所述第一平面反射鏡111反射后沿原路返回。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述第一45度反射鏡105、第二45度反射鏡106分別對應(yīng)于干涉儀測量軸Z1、Z2，使所述干涉儀測量軸Z1、Z2的出射光能被所述第一45度反射鏡105、第二45度反射鏡106反射后到達(dá)第二長條平面反射鏡110，光束被反射后沿原路，再分別經(jīng)第一45度反射鏡105、第二45度反射鏡106返回；所述第三45度反射鏡107對應(yīng)于干涉儀測量軸Z3，使所述干涉儀測量軸Z3的出射光能被所述第三45度反射鏡107反射后到達(dá)第三長條平面反射鏡114，光束被反射后沿原路，再經(jīng)第三45度反射鏡107返回。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，所述水平縱向測量模塊(101)還包括一個干涉儀測量軸Z4，所述水平橫向測量模塊(102)還包括一個干涉儀測量軸X2，所述掃描光刻機掩模臺位置測量裝置還包括第四45度反射鏡(108)，所述第四45度反射鏡108對應(yīng)于干涉儀測量軸Z4，使所述干涉儀測量軸Z4的出射光能被所述第四45度反射鏡108反射后到達(dá)第三長條平面反射鏡114，光束被反射后沿原路，再經(jīng)第四45度反射鏡108返回；所述第一長條平面反射鏡118對應(yīng)于干涉儀測量軸X2，使干涉儀測量軸X2的出射光能被所述第一長條平面反射鏡118反射后沿原路返回。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，Y1干涉儀測量軸與所述Y2干涉儀測量軸有一距離dy且關(guān)于水平縱向(y向)軸線對稱，Z1干涉儀測量軸到水平縱向(y向)軸線有一距離dz，Z2干涉儀測量軸到Z1干涉儀測量軸有一距離cz，且干涉儀測量軸Z1、Z2與干涉儀測量軸Z3、Z4關(guān)于水平縱向(y向)軸線對稱。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掃描光刻機掩模臺位置測量裝置，其特征在于，干涉儀測量軸X1與干涉儀測量軸X2關(guān)于水平橫向(x向)軸線對稱。