[發(fā)明專利]光刻機曝光劑量控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910199446.0
• 申請日: 2009-11-26
• 公開（公告）號: CN102081307A
• 公開（公告）日: 2011-06-01
• 發(fā)明（設計）人: 張俊;張志鋼;羅聞
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

1.一種光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1，向光刻機的曝光劑量控制系統(tǒng)輸入?yún)?shù)和劑量控制參數(shù)的約束條件；

所述參數(shù)包括劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)L_DA、客戶成本偏好系數(shù)L_COO、硬件參數(shù)和曝光劑量需求Dose_req；

步驟2，光刻機的曝光劑量控制系統(tǒng)對步驟1輸入的上述參數(shù)和上述劑量控制參數(shù)的約束條件進行分析，選擇偏好數(shù)學模型進行運算，得到劑量控制參數(shù)；

步驟3，光刻機的曝光劑量控制系統(tǒng)輸出劑量控制參數(shù)，控制光刻機進行曝光。

2.如權(quán)利要求1所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，所述劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)L_DA的取值范圍為0≤L_DA≤1，所述客戶成本偏好系數(shù)L_COO的取值范圍為0≤L_COO≤1。

3.如權(quán)利要求2所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，若L_DA+L_COO不等于1，對所述劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)L_DA和客戶成本偏好系數(shù)L_COO進行歸一化處理，上述歸一化處理為用L_DA/(L_DA+L_COO)和L_COO/(L_DA+L_COO)分別取代L_DA和L_COO。

4.如權(quán)利要求1所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，步驟1中，所述硬件參數(shù)包括激光脈沖的有效能量Ep、掃描長度Lscan、有效狹縫寬度Wslit以及默認最大準備時間Tpreptime_max，所述激光脈沖的有效能量Ep由光刻膠和工藝確定。

5.如權(quán)利要求4所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，步驟1中，所述劑量控制參數(shù)的約束條件包括：可變衰減器透過率VA的最大值VA_max、可變衰減器透過率VA的最小值VA_min，即VA_min≤VA≤VA_max，或者VA＝1；脈沖頻率f的最大值f_max、脈沖頻率f的最小值f_min，即f_min≤f≤f_max；掃描速度V的最大值V_max、掃描速度V的最小值V_min，即V_min≤V≤V_max；有效狹縫脈沖個數(shù)N的最大值N_max、有效狹縫脈沖個數(shù)N的最小值N_min，即N_min≤N≤N_max。

6.如權(quán)利要求5所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，所述步驟2中的偏好數(shù)學模型是綜合考慮劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)L_DA和客戶成本偏好系數(shù)L_COO的算法，該算法根據(jù)輸入的劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)和客戶成本偏好系數(shù)，分配權(quán)重調(diào)整有效狹縫脈沖個數(shù)，在劑量控制參數(shù)的約束條件下，設置脈沖頻率或者掃描速度，利用脈沖頻率、掃描速度、可變衰減器透過率、有效狹縫脈沖個數(shù)、有效狹縫寬度、曝光劑量需求和激光脈沖的有效能量之間的關(guān)系計算出掃描速度或脈沖頻率、可變衰減器透過率，并使脈沖頻率、掃描速度、可變衰減器透過率和有效狹縫脈沖個數(shù)均滿足約束條件。

7.如權(quán)利要求6所述的光刻機曝光劑量控制方法，其特征在于，所述步驟2中根據(jù)劑量系統(tǒng)性能偏好系數(shù)L_DA和客戶成本偏好系數(shù)L_COO分配權(quán)重調(diào)整有效狹縫脈沖個數(shù)N時，當L_COO趨近于0時，有效狹縫脈沖個數(shù)N趨近于N_max，當L_DA趨近于0時，有效狹縫脈沖個數(shù)N趨近于N_min。