[發明專利]平衡質量系統及其工件臺有效
| 申請號: | 200910199196.0 | 申請日: | 2009-11-20 |
| 公開(公告)號: | CN102073219A | 公開(公告)日: | 2011-05-25 |
| 發明(設計)人: | 鄭樂平;吳立偉;龐璐;方敏 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平衡 質量 系統 及其 工件 | ||
1.一種平衡質量系統,適用于消減光刻工藝中工件臺的微動臺Rz方向的轉矩,上述工件臺包括基座、用以承載硅片的微動臺和用以驅動微動臺的粗動臺,該粗動臺包括兩個Y向長行程電機和分別連接至上述兩個Y向長行程電機的動子并由上述兩個Y向長行程電機驅動的兩個Y向長行程滑塊,其特征在于,該平衡質量系統包括:
下層平衡塊,具有兩個Y向氣浮導軌和兩個Y向導軌,上述兩個Y向導軌上分別可滑動地設置有上述粗動臺的兩個Y向長行程滑塊;以及
四個上層平衡塊,其端部利用多個柔性鉸鏈將其首尾相連,形成口字形狀,設置在下層平衡塊的兩個Y向氣浮導軌上,這些上層平衡塊具有兩個Y向電機定子導軌,上述粗動臺兩個Y向長行程電機的動子分別可滑動地設置在上述兩個Y向電機定子導軌上。
2.根據權利要求1所述的平衡質量系統,其特征在于,該下層平衡塊下部在X向與上述基座彈性連接,并在Y向垂直氣浮于上述基座。
3.根據權利要求1所述的平衡質量系統,其特征在于,該平衡質量系統還包括:
兩個支撐軸,分別固定在相互平行的兩個上層平衡塊上;以及
兩個運動負載,分別可滑動的設置于這些支撐軸上。
4.根據權利要求1所述的平衡質量系統,其特征在于,上述粗動臺還包括:
X向橫梁,其兩端固定在上述兩個Y向長行程滑塊上;以及
X向長行程電機設置在上述X向橫梁上,上述微動臺設置于上述X向橫梁上,由上述X向長行程電機驅動其沿X方向移動。
5.一種具平衡質量系統的工件臺,其特征在于,包括:
基座;
下層平衡塊,具有兩個Y向氣浮導軌和兩個Y向導軌,上述兩個Y向導軌上分別可滑動地設置有上述粗動臺的兩個Y向長行程滑塊;
四個上層平衡決,其頂端利用多個柔性鉸鏈將其首尾相連,形成口字形狀,設置在下層平衡塊的兩個Y向氣浮導軌上,這些上層平衡塊具有兩個Y向電機定子導軌;
粗動臺,包括:
Y向長行程電機,上述Y向長行程電機的動子可滑動地設置在上述兩個Y向電機定子導軌之一上;以及
X向長行程電機,上述X向長行程電機的定子安裝在上述Y向長行程電機的動子上,被上述Y向長行程電機的動子帶動沿Y向移動,上述X向長行程電機的動子被定子驅動,沿X向移動;
微動臺,用以承載硅片,由上述X向長行程電機驅動其沿X方向移動。
6.如權利要求5所述的具平衡質量系統的工件臺,其特征在于,該下層平衡塊下部在X向與上述基座彈性連接,并在Y向垂直氣浮于上述基座。
7.如權利要求5所述的具平衡質量系統的工件臺,其特征在于,其中該粗動臺中該Y向長行程電機的個數為2個,該X向長行程電機的個數為1個。
8.如權利要求5所述的具平衡質量系統的工件臺,其特征在于,其中該粗動臺還包括:
X向橫梁,其兩端固定在上述兩個Y向長行程滑塊上,上述X向長行程電機的動子和上述微動臺設置在上述X向橫梁上。
9.根據權利要求5所述的具平衡質量系統的工件臺,其特征在于,還包括:
兩個支撐軸,分別固定在相互平行的兩個上層平衡塊上;以及
兩個運動負載,分別可滑動的設置于上述這些支撐軸上。
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