[發(fā)明專利]光掩模缺陷的定位裝置及定位方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200910197803.X
• 申請日: 2009-10-28
• 公開（公告）號: CN102053479A
• 公開（公告）日: 2011-05-11
• 發(fā)明（設計）人: 葛海鳴
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: G03F1/00
• 分類號: G03F1/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 鄭立柱

1.一種定位裝置，其特征在于，包括：

基座；

氣浮式X-Y兩坐標平面移動臺，固定在基座上，用于將光掩模放置臺在X-Y方向精確移動；

光掩模放置臺，包括固定臺和旋轉臺，固定臺固定在所述氣浮式X-Y兩坐標平面移動臺上，旋轉臺相對于所述氣浮式X-Y兩坐標平面移動臺可旋轉地連接在氣浮式X-Y兩坐標平面移動臺上；X-Y方向反射部件和X-Y方向標記設置在光掩模放置臺的固定臺上；旋轉臺上設置若干真空孔，用于吸附固定光掩模版；

激光定位裝置，設置在基座上，發(fā)出光照射到所述反射部件并接受反射光以測定光掩模放置臺位置；

光掩模上設置粗對準標記和細對準標記；

光掩模激光對準裝置，設置在光掩模放置臺上方，該裝置利用激光掃描光掩模版上的粗對準標記和細對準標記的X-Y方向的邊緣以及光掩模放置臺上的X-Y方向標記，測量出這些粗細對準標記的位置，進而測算出光掩模上對準標記的X-Y方向相對于移動臺的X-Y標記方向的角度，將光掩模的X-Y方向旋轉到與移動臺的X-Y標記方向平行。

2.如權利要求1所述的定位裝置，其特征在于，所述氣浮X-Y兩坐標平面移動臺包括：

第一移動臺，包括兩個并排設置的氣浮導軌和滑動部件，導軌固定在基座上；

第二移動臺，包括一個氣浮導軌和滑動部件，導軌固定在第一移動臺的兩個滑動部件上；

第一直線驅動電機，設置在第一移動臺的兩個氣浮導軌之間，該驅動電機的動子與第二移動臺的導軌底部連接，用于驅動第一移動臺的滑動部件和第二移動臺的導軌，使其在第一方向上相對于第一移動臺的導軌和基座移動；

第二直線驅動電機，設置在第二移動臺的氣浮導軌和滑動部件之間，該驅動電機的動子與第二移動臺的滑動部件底部連接，用于驅動第二移動臺的滑動部件，使其在垂直于第一方向的第二方向上相對于第一移動臺移動。

3.如權利要求1或2所述的定位裝置，其特征在于，光掩模放置臺的旋轉臺與移動臺之間設置旋轉臺托盤，該托盤固定在移動臺上，旋轉臺相對于該托盤可轉動地與其連接。

4.如權利要求1～3任一所述的定位裝置，其特征在于，旋轉驅動電機設置在旋轉臺托盤或移動臺中，旋轉臺與旋轉驅動電機的動子連接，旋轉臺托盤或移動臺與旋轉驅動電機的定子連接。

5.如權利要求4所述的定位裝置，其特征在于，旋轉臺與旋轉臺托盤或移動臺通過旋轉軸部件連接，旋轉軸部件的一端與旋轉臺連接，另一端與旋轉驅動電機的動子連接，旋轉驅動電機的定子與旋轉臺托盤或移動臺連接。

6.如權利要求1～5任一所述的定位裝置，其特征在于，移動臺中，或者移動臺和旋轉臺托盤和/或旋轉軸部件中，具有真空通道與旋轉臺的真空孔相連通。所述的旋轉軸部件具有內部真空通道，其頂部與光掩模放置臺連接，其底部與旋轉電機的動子連接，光掩模放置臺的真空通道與旋轉軸部件的真空通道相連通。

7.如權利要求6所述的定位裝置，其特征在于，所述的真空孔是三個。

8.一種光掩模缺陷修復裝置，其特征在于，包括權利要求1～7中任一所述的定位裝置。

9.一種光掩模缺陷的定位方法，包括如下步驟：

a.將光掩模版置于光掩模放置臺上，抽真空，使光掩模版牢固吸附在光掩模放置臺上，以使光掩模相對放置臺的位置固定下來；

b.利用光掩模激光對準裝置，對光掩模進行粗對準和細對準，利用激光掃描光掩模版上的粗細對準標記的X-Y方向的邊緣以及光掩模放置臺上的X-Y方向標記，測量出這些粗細對準標記的位置，進而測算出光掩模上對準標記的X-Y方向相對于移動臺的X-Y標記方向的角度，將光掩模的X-Y方向旋轉到與移動臺的X-Y標記方向平行，然后定義光掩模版上(0，0)坐標的位置；

c.以光掩模上所述位置為(0，0)點建立X-Y坐標系統(tǒng)，與移動臺的X-Y坐標系統(tǒng)有一一對應的相對位移關系；

d.根據(jù)檢驗出的缺陷位置，在光掩模制作設計的圖形數(shù)據(jù)庫中找到與缺陷位置相對應的精確坐標；將所述缺陷坐標輸入到所述移動臺坐標系統(tǒng)；

e.利用激光定位裝置，控制移動臺的精確的位置移動，將光掩模的缺陷位置精確地移動到修復腔體正下方。