[發(fā)明專利]共享字線的分柵式閃存無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200910197119.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-10-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN101694845A | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-04-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹子貴;顧靖 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/115 | 分類號(hào): | H01L27/115;H01L23/528;G11C16/26;G11C16/10;G11C16/14 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 鄭瑋 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 共享 分柵式 閃存 | ||
1.一種共享字線的分柵式閃存,其特征在于,包括:
半導(dǎo)體襯底,其上具有間隔設(shè)置的源極區(qū)域和漏極區(qū)域;
溝道區(qū),位于所述源極區(qū)域和漏極區(qū)域之間;
第一存儲(chǔ)位單元,位于所述溝道區(qū)與所述源極區(qū)域上方;
第二存儲(chǔ)位單元,位于所述溝道區(qū)與所述漏極區(qū)域上方;
字線,包括第一部分和第二部分,所述第一部分位于第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元之間,所述第二部分位于第一部分上方并向兩側(cè)延伸至第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元上方,
其中,所述第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元為納米晶體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分柵式閃存,其特征在于分別對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加第一存儲(chǔ)位單元讀取電壓,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元讀取。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的分柵式閃存,其特征在于對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加的第一存儲(chǔ)位單元讀取電壓分別為4V、0V和1.5V,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元讀取。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分柵式閃存,其特征在于分別對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加第二存儲(chǔ)位單元讀取電壓,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元讀取。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的分柵式閃存,其特征在于對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加的第二存儲(chǔ)位單元讀取電壓分別為4V、1.5V和0V,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元讀取。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分柵式閃存,其特征在于分別對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加第一存儲(chǔ)位單元編程電壓,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元編程。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的分柵式閃存,其特征在于對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加的第一存儲(chǔ)位單元編程電壓分別為6V、4V和0V,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元編程。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分柵式閃存,其特征在于分別對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加第二存儲(chǔ)位單元編程電壓,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元編程。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的分柵式閃存,其特征在于對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加的第二存儲(chǔ)位單元編程電壓分別為6V、0V和4V,實(shí)現(xiàn)第二存儲(chǔ)位單元編程。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分柵式閃存,其特征在于分別對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加存儲(chǔ)位單元擦除電壓,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元擦除。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的分柵式閃存,其特征在于對(duì)所述字線、所述源極區(qū)域和所述漏極區(qū)域施加的存儲(chǔ)位單元擦除電壓分別為-5V、F和F,實(shí)現(xiàn)第一存儲(chǔ)位單元和第二存儲(chǔ)位單元擦除。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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