[發明專利]激光干涉儀測量裝置和方法有效
| 申請號: | 200910197102.6 | 申請日: | 2009-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN102042804A | 公開(公告)日: | 2011-05-04 |
| 發明(設計)人: | 單世寶;唐彩紅;程吉水 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G01B9/02 | 分類號: | G01B9/02;G02B17/06 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 干涉儀 測量 裝置 方法 | ||
1.一種激光干涉儀測量裝置,其特征在于所述裝置包括:
載物臺;
第一反射鏡,位于所述載物臺的上方,所述第一反射鏡反射面和所述載物臺水平面平行;
第二反射鏡,固定放置于所述載物臺的一側邊;
第一激光干涉儀,位于所述第二反射鏡的一側,所述第一激光干涉儀出射的測量光經所述第二反射鏡反射后垂直入射所述第一反射鏡并沿原路返回;
第三反射鏡,固定放置于所述載物臺的另一側邊;
第二激光干涉儀,位于所述第三反射鏡的一側,所述第二激光干涉儀出射的測量光經所述第三反射鏡反射后垂直入射所述第一反射鏡并沿原路返回。
2.根據權利要求1所述的激光干涉儀測量裝置,其特征在于所述裝置還包括:
第四反射鏡,固定放置于所述載物臺的一側,和所述載物臺水平面垂直;
第三激光干涉儀,位于所述第四反射鏡的一側,所述第三激光干涉儀出射的測量光經所述第四反射鏡反射后沿原路返回。
3.根據權利要求2所述的激光干涉儀測量裝置,其特征在于所述第三激光干涉儀出射的測量光數量為一束。
4.根據權利要求1所述的激光干涉儀測量裝置,其特征在于所述第一激光干涉儀出射的測量光和所述第二反射鏡反射面的夾角為45度,所述第二反射鏡反射面與所述載物臺水平面的夾角為45度。
5.根據權利要求1或4所述的激光干涉儀測量裝置,其特征在于所述第二激光干涉儀出射的測量光和所述第三反射鏡反射面的夾角為45度,所述第三反射鏡反射面與所述載物臺水平面的夾角為45度。
6.一種使用權利要求1的裝置的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述方法包括以下步驟:
從第一激光干涉儀出射的測量光經所述第二反射鏡反射,垂直入射第一反射鏡后沿原路被反射回來,與所述第一激光干涉儀內的參考光產生干涉而得到測量信號;
從第二激光干涉儀出射的測量光經所述第三反射鏡反射,垂直入射第一反射鏡后沿原路被反射回來,與所述第二激光干涉儀內的參考光產生干涉而得到測量信號;
根據多個所述測量信號計算載物臺的位置。
7.根據權利要求6所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述方法還包括:
第三激光干涉儀出射的測量光經所述第四反射鏡反射后沿原路返回,所述第四反射鏡,固定放置于所述載物臺的一側,和所述載物臺水平面垂直,所述第三激光干涉儀位于所述第四反射鏡的一側。
8.根據權利要求7所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述第三激光干涉儀出射的測量光數量為一束。
9.根據權利要求6或7所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于從所述第一激光干涉儀和所述第二激光干涉儀出射的測量光的數量為其中一個激光干涉儀至少三束測量光,另一激光干涉儀為至少兩束測量光。
10.根據權利要求9所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述至少三束測量光和所述至少兩束測量光均分布在兩個水平面。
11.根據權利要求10所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于從同一激光干涉儀出射的分布在同一水平面的測量光至少有兩束不重合。
12.根據權利要求6所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述第一激光干涉儀出射的測量光和所述第二反射鏡反射面的夾角為45度,所述第二反射鏡反射面與所述載物臺水平面的夾角為45度。
13.根據權利要求12所述的激光干涉儀測量方法,其特征在于所述第一激光干涉儀出射的測量光和所述第三反射鏡反射面的夾角為45度,所述第三反射鏡反射面與所述載物臺水平面的夾角為45度。
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