[發明專利]具有光和溫度響應性的兩親性嵌段共聚物及其制備方法無效
| 申請號: | 200910194629.3 | 申請日: | 2009-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN101993518A | 公開(公告)日: | 2011-03-30 |
| 發明(設計)人: | 俞燕蕾;馮澤;林里;顏曾 | 申請(專利權)人: | 復旦大學 |
| 主分類號: | C08F293/00 | 分類號: | C08F293/00;C08F220/36;C08F220/54;C08J3/07;C08L53/00 |
| 代理公司: | 上海正旦專利代理有限公司 31200 | 代理人: | 包兆宜 |
| 地址: | 20043*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 具有 光和 溫度 響應 兩親性嵌段 共聚物 及其 制備 方法 | ||
1.式(a)的兩親性嵌段共聚物:
其中n為5-2500,i為0-500,j為0-500;
X是鹵素原子Br或者Cl;R1是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烴基,所述的烴基是飽和的或者不飽和的,或上述烴基的衍生物;
R2是C1~C18的取代或未取代的烴基,所述的烴基是飽和的或者不飽和的,或上述烴基的衍生物;
R3是H,或者CH3;
R4是C1~C18的取代或未取代的烴基,所述的烴基是飽和的或者不飽和的,烷氧基、烷硫基、烷氨基、二烷氨基、烷酰基、烷酰氧基、烷酰胺基或烷磺酰基,或上述基團的衍生物,或R4在(a)式中不出現;
R5是H,或者是C1~C18的取代或未取代的烴基,所述的烴基是飽和的或者不飽和的,或烷氧基或是具有極性的端基;
R6是H,或者是CH3;
R7選自以下基團中的一種:
2.一種制備如權利要求1所述的兩親性嵌段共聚物的方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)大分子引發劑(d)的合成,反應的方程式為:
(2)嵌段共聚物的合成,以大分子引發劑(d)、具有光響應基團的單體(e)、具有溫敏性基團的單體(f)為原料,加入過渡金屬鹵化物及配體組成的催化劑,選擇合適的反應溶劑,設定合適的反應溫度和反應時間,制得兩親性嵌段共聚物,其反應的方程式為:
其中,所述大分子引發劑(d)和兩單體(e、f)摩爾比是1∶10-1∶1000;
過渡金屬鹵化物與大分子引發劑(d)的摩爾比是20∶1-1∶20;
配體與過渡金屬鹵化物摩爾比是20∶1-1∶20;
所述反應時間為0.5h-200h,反應溫度為25℃-250℃;
所述反應溶劑選自極性或非極性的有機溶劑中一種或者幾種混合。
3.如權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述反應溶劑選自乙腈、三氯甲烷、丙酮、丁酮、環己酮、四氫呋喃、1,4-二氧六環、苯甲醚、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺及二甲基亞砜中的一種或幾種。
4.如權利要求2所述的制備方法,其特征在于,單體e和單體f同時添加到體系中參加反應,得到的疏水鏈段是無規或交替結構;當先加入其中一種單體,后加入另一種單體,得到的疏水鏈段是嵌段結構,其中先后加入的兩種單體任意選擇其中的一種先加或后加。
5.如權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述的過渡金屬鹵化物選自鉻Cr、鐵Fe、鎳Ni、銅Cu、鉬Mo、釕Ru、銠Rh、鈀Pd、錸Re或銥Ir鹵化物中的一種或者幾種。
6.如權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述的過渡金屬鹵化物選自Fe、Ni或Cu鹵化物中的一種或幾種。
7.如權利要求2所述的制備方法,其特征在于,所述的配體選自含磷或氮的有機物中的一種或者幾種。
8.一種制備聚集體材料的方法,以專利CN?101434684的方法為基礎,其特征是,再通過蒸餾水透析或者常溫揮發的條件下除去有機溶劑,成為純水體系。其特點是,
9.如權利要求8所述的制備方法,其特征在于,所述的聚集體材料其尺寸范圍為5nm-200nm,形態均一,為長期穩定的球形膠束聚集體。
10.權利要求8的聚集體材料在具有光響應特性領域中的應用,所述的應用領域包括但不限于光控釋放、光催化、光開關或傳感領域。
11.如權利要求10所述的聚集體材料的應用,其特征是,在紫外光的照射下聚集體材料發生變形,疏松,解離破壞,當轉換成可見光照射時,聚集體材料又恢復到初始狀態。
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