[發(fā)明專(zhuān)利]一種多孔氧化鎢薄膜的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200910192095.0
• 申請(qǐng)日: 2009-09-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101660124A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-03-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐剛;黃志峰;黃春明;徐雪青;苗蕾
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院廣州能源研究所
• 主分類(lèi)號(hào): C23C14/14
• 分類(lèi)號(hào): C23C14/14;C23C14/35;C23C14/58;C23F1/02;C23F1/36
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 莫瑤江

1.一種多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于包括以下步驟：

(1)將清洗好的襯底基片放入磁控濺射系統(tǒng)的濺射室，采用純度均不低于99.9％ 的高純鎢靶和高純鋁靶作為濺射靶材，將濺射室本底真空抽至10^-3Pa以下， 基片溫度設(shè)定在室溫至300℃；

(2)向?yàn)R射室通入工作氣體，調(diào)整工作氣壓，設(shè)定鎢靶和鋁靶電源的濺射功率， 以雙靶共濺射的方式在襯底基片上鍍膜；

(3)濺射結(jié)束后在基片上得到銀白色的鎢-鋁合金薄膜；

(4)把鎢-鋁合金薄膜浸入堿性溶液中腐蝕氧化，去除金屬鋁，在基片上得到多孔 氧化鎢薄膜。

2.如權(quán)利要求1所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于步驟(2)所述的磁控 濺射工藝中工作氣體為惰性氣體，工作氣壓在0.1Pa～2.0Pa之間。

3.如權(quán)利要求1所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于所述步驟(4)中堿性 溶液是金屬氫氧化物水溶液。

4.如權(quán)利要求3所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于所述堿性溶液為氫氧化 鈉水溶液。

5.如權(quán)利要求1或3或4中所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于所述步驟(4) 中堿性溶液的濃度為0.5mol/L至10.0mol/L，腐蝕過(guò)程所需時(shí)間為5-20分鐘。

6.如權(quán)利要求5所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于所述步驟(4)中堿性溶 液的濃度為2.5-5.0mol/L。

7.如權(quán)利要求1所述的多孔氧化鎢薄膜的制備方法，其特征在于所述鎢靶濺射功率為 3-8W/cm²，鋁靶濺射功率為5-10W/cm²。